（2009?泰州模拟）高纯超净特种气体主要用于制造半导体器件、化合物半导体、激光器、光导纤维、太阳能电池等．超纯硅化氢制备方法如下：（已知：常温下SiH₄难溶于水，与稀硫酸不反应，乙醚沸点34.6℃）
①由下列两种方法制得SiH₄
方法一：Mg₂Si+4NH₄Cl

液氨

SiH₄+2MgCl₂+4NH₃
方法二：LiAlH₄+SiCl₄

C2H5OC2H5

SiH₄+AlCl₃+LiCl
②除去SiH₄中混有的杂质气体
请回答下列问题：
（1）对方法一的理解，有同学认为是NH₄⁺水解产生H⁺，Mg₂Si与H⁺反应生成SiH₄，你认为该观点是否正确？并简述理由．
（2）将方法二的固体产物溶于水，只有一种物质能促进水的电离，则NaOH、Mg（OH）₂、LiOH碱性由强到弱的顺序为．
（3）两种方法制得的SiH₄中均含有少量杂质，有同学提出用下列方法除去SiH₄中的杂质，其中肯定不可行是．
a．用稀硫酸洗气     b．高温使杂质分解      c．低温分馏
（4）甲、乙、丙三同学在讨论SiH₄制备方法的化学反应类型时发表如下观点，你认为正确的是．
a．甲同学认为两个反应均为氧化还原反应
b．乙同学认为两个反应中只有一个属于氧化还原反应
c．丙同学认为要判断是否属于氧化还原反应，还需要知道SiH₄中各元素具体的化合价．

我国目前制备多晶硅主要采用三氯氢硅氢还原法、硅烷热解法和四氯化硅氢还原法．由于三氯氢硅还原法具有一定优点，被广泛应用．其简化的工艺流程如图所示：

（1）制备三氯氢硅的反应为：Si（s）+3HCl（g）═SiHCl₃（g）+H₂（g）△H=-210kJ?mol^-1．
伴随的副反应有：Si（s）+4HCl（g）═SiCl₄（g）+2H₂（g）△H=-241kJ?mol^-1．
SiCl₄在一定条件下与H₂反应可转化为SiHCl₃，反应的热化学方程式为：
SiCl₄（g）+H₂（g）═SiHCl₃（g）+HCl（g）△H=．
（2）由纯SiHCl₃制备高纯硅的化学反应方程式为．该生产工艺中可以循环使用的物质是（至少写出两种）．
（3）由于SiH₄具有易提纯的特点，因此硅烷热分解法是制备高纯硅很有发展潜力的方法．工业上广泛采用的合成硅烷方法是让硅化镁和固体氯化铵在液氨介质中反应得到硅烷，化学方程式是；整个制备过程必须严格控制无水，否则反应将不能生成硅烷，而是生成硅酸和氢气等，其化学方程式为；整个系统还必须与氧隔绝，其原因是．

[化学-选修3：物质结构与性质]
硅是重要的半导体材料，构成了现代电子工业的基础．请回答下列问题：
（1）基态Si原子中，电子占据的最高能层符号为，该能层具有的原子轨道数为、电子数为．
（2）硅主要以硅酸盐、等化合物的形式存在于地壳中．
（3）单质硅存在与金刚石结构类似的晶体，其中原子与原子之间以相结合，其晶胞中共有8个原子，其中在面心位置贡献个原子．
（4）单质硅可通过甲硅烷（SiH₄）分解反应来制备．工业上采用Mg₂Si和NH₄Cl在液氨介质中反应制得SiH₄，该反应的化学方程式为．
（5）碳和硅的有关化学键键能如下所示，简要分析和解释下列有关事实：

化学键	C-C	C-H	C-O	Si-Si	Si-H	Si-O
键能/（kJ?mol-1）	356	413	336	226	318	452

①硅与碳同族，也有系列氢化物，但硅烷在种类和数量上都远不如烷烃多，原因是．
②SiH₄的稳定性小于CH₄，更易生成氧化物，原因是．
（6）在硅酸盐中，SiO

4- 4

四面体（如下图（a））通过共用顶角氧离子可形成岛状、链状、层状、骨架网状四大类结构型式．图（b）为一种无限长单链结构的多硅酸根，其中Si原子的杂化形式为，Si与O的原子数之比为，化学式为．

我国目前制备多晶硅主要采用三氯氢硅氢还原法、硅烷热解法和四氯化硅氢还原法．由于三氯氢硅还原法具有一定优点，被广泛应用．其简化的工艺流程如图所示：

反应①：Si（粗）+3HCl（g） 

553----573K  .

SiHCl₃（l）+H₂（g）
反应②：SiHCl₃+H₂ 

1373K  .

 Si（纯）+3HCl
（1）制备三氯氢硅的反应为：Si（s）+3HCl（g）═SiHCl₃（g）+H₂（g）；△H=-210kJ?mol^-1．伴随的副反应有：Si（s）+4HCl（g）═SiCl₄（g）+2H₂（g）；△H=-241kJ?mol^-1．SiCl₄在一定条件下与H₂反应可转化为SiHCl₃，反应的热化学方程式为：SiCl₄（g）+H₂（g）═SiHCl₃（g）+HCl（g）；△H=．
（2）假设在每一轮次的投料生产中，硅元素没有损失，反应①HCl中的利用率为75%，反应②中和H₂的利用率为80%．则在下一轮次的生产中，需补充投入HCl和H₂的体积比是．
（3）由于SiH₄具有易提纯的特点，因此硅烷热分解法是制备高纯硅很有发展潜力的方法．工业上广泛采用的合成硅烷方法是让硅化镁和固体氯化铵在液氨介质中反应得到硅烷，化学方程式是；
整个制备过程必须严格控制无水，否则反应将不能生成硅烷，而是生成硅酸和氢气等，其化学方程式为；
整个系统还必须与氧隔绝，其原因是．
（4）若将硅棒与铁棒用导线相连浸在氢氧化钠溶液中构成原电池，则负极的电极反应式为：
（5）硅能用于合成硅橡胶，右图是硅橡胶中的一种，其主要优点是玻璃化温度低，耐辐射性能好，则该硅橡胶的化学式为．