A. 装置①可用于分离C2H5OH和H2O的混合物

B. 装置②可用于收集H2、NH3、CO2、Cl2、HCl、NO2等气体

C. 装置③中X若为CCl4，可用于吸收NH3或HCl，并防止倒吸

D. 装置④可用于干燥、收集NH3，并吸收多余的NH3

A. 红棕色的NO2加压后颜色先变深后变浅 B. 温度过高对合成氨不利

C. 钢铁在潮湿的空气中容易生锈 D. 常温下，将1mLpH=3的醋酸溶液加水稀释至l00mL，测得其pH＜5

A.从E口逸出的是氢气

B.向B口中加入含少量NaOH的溶液以增强导电性

C.标准状况下每生成22.4 L Cl2，便产生2 mol NaOH

D.向电解后的阳极室溶液中加入适量盐酸，各物质可以恢复到电解前的浓度

【题目】氮化硅（Si3N4）是一种新型陶瓷材料，它可由石英与焦炭在高温的氮气流中，通过以下反应制得：3SiO2+6C+2N2Si3N4+6CO。下列叙述正确的是

A.在氮化硅的合成反应中，N2是还原剂，SiO2是氧化剂

B.上述反应中每生成1molSi3N4，N2得到12mol电子

C.若已知上述反应为放热反应，升高温度，上述平衡向正反应方向移动

D.若使压强增大，上述平衡向正反应方向移动

A.该装置工作时，H+由b极区流向a极区

B.该制氢工艺中光能最终转化为化学能

C.a极上发生的电极反应为Fe3++e-=Fe2+

D.a极区需不断补充含Fe3+和Fe2+的溶液

A. 1 mol H2分子断键需要吸收436 kJ的能量

B. H2(g)+1/2O2(g)＝H2O(g) ΔH＝－241.8 kJ/mol

C. 反应物的总能量高于生成物的总能量

D. 形成化学键释放的总能量比断裂化学键吸收的总能量小

【题目】设为阿伏加德罗常数的值，下列说法正确的是( )

A.常温常压下，与的混合气体中含有分子总数为

B.羟基-OH和1mol甲基-CH3中含有的电子数均为

C.a mol苯乙烯中含有C-H键的数目为

D.与浓硫酸完全反应，生成气体的分子数为

A.450 mLB.500 mLC.400 mLD.不能确定

(1) X、Y分子量之差为___________________。

(2)1个Y分子中应该有____________个氧原子。

(3) X的分子式是_____________________________________。

(4) G和X互为同分异构体，且具有相同的官能团，用芳香烃A合成G路线如下：

①写出A的结构简式____________________

② E→F的反应类型是_________反应，该反应的化学方程式为：____________________。

③写出所有符合下列条件的F的同分异构体的结构简式：

ⅰ．分子内除了苯环无其他环状结构，且苯环上有2个对位取代基。

ⅱ．一定条件下，该物质既能与银氨溶液发生银镜反应又能和FeCl3溶液发生显色反应。

______________________________________________________________________。

【题目】设代表阿伏加德罗数的数值，下列说法中正确的是

A.的溶液中的数目为

B.分子中碳原子之间共用电子对数为

C.电解精炼铜时，若阴极得到电子数为个，则阳极质量减少64g

D.标准状况下，完全溶于水转移电子数为