【题目】甲硅烷广泛用于电子工业、汽车领域,三氯氢硅(SiHCl3)是制备甲硅烷的重要原料。回答下列问题:

(1)工业上以硅粉和氯化氢气体为原料生产SiHCl3时伴随发生的反应有:

Si(s)4HCl(g)=SiCl4(g)2H2(g) H-241kJ/mol

SiHCl3(g)HCl(g)=SiCl4(g)H2(g) H-31kJ/mol

以硅粉和氯化氢气体生产SiHCl3的热化学方程式是 ___

(2)铝锂形成化合物LiAlH4既是金属储氢材料又是有机合成中的常用试剂,遇水能得到无色溶液并剧烈分解释放出H2,请写出其水解反应化学方程式____LiAlH4在化学反应中通常作_______(氧化还原”)剂。工业上可用四氯化硅和氢化铝锂(LiAlH4)制甲硅烷,反应后得甲硅烷及两种盐。该反应的化学方程式为 _________

(3)三氯氢硅歧化也可制得甲硅烷。反应2SiHCl3(g)SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)为歧化制甲硅烷过程的关键步骤,此反应采用一定量的PA100催化剂,在不同反应温度下测得SiHCl3的转化率随时间的变化关系如图所示。

353.15K时,平衡转化率为____,该反应是____反应(填放热”“吸热)。

323.15K时,要缩短反应达到平衡的时间,可采取的最佳措施是____

(4)比较ab处反应速率的大小:Va ___Vb (填”“)。已知反应速率V=K1x2SiHCl3V=K2xSiH2Cl2xSiCl4K1K2分别是正、逆反应的速率常数,与反应温度有关,x为物质的量分数,则在353.15KK1/K2 ____(保留3位小数)。

(5)硅元素最高价氧化物对应的水化物是H2SiO3,室温下,0.1mol/L的硅酸钠溶液和0.1mol/L的碳酸钠溶液,碱性更强的是 ___,其原因是____。已知:H2SiO3 :Ka1=2.0×10-10Ka2=2.0×10-12H2CO3 Ka1=4.3×10-7Ka2=5.6×10-11

 0  197117  197125  197131  197135  197141  197143  197147  197153  197155  197161  197167  197171  197173  197177  197183  197185  197191  197195  197197  197201  197203  197207  197209  197211  197212  197213  197215  197216  197217  197219  197221  197225  197227  197231  197233  197237  197243  197245  197251  197255  197257  197261  197267  197273  197275  197281  197285  197287  197293  197297  197303  197311  203614 

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