Question

【题目】下列关于物质的用途及反应方程式的叙述不正确的是( )

A.印刷电路板时用FeCl3作为腐蚀液：2Fe3+ + Cu == 2Fe2+ + Cu2+

B.用HF雕刻玻璃：SiO2 + 4HF == SiF4↑ + 2H2O

C.高炉炼铁的主要原理：CO + FeO == Fe + CO2

D.小苏打做发酵粉：2NaHCO3 == Na2CO3 + H2O + CO2↑

Answer 1

【答案】C

【解析】

A. 制作印刷电路板时用FeCl3作为腐蚀液，氯化铁和铜反应生成氯化亚铁和氯化铜，反应的离子方程式是2Fe3+ + Cu == 2Fe2+ + Cu2+，故A正确；

B. 二氧化硅与氢氟酸反应生成四氟化硅气体和水，用HF雕刻玻璃的化学方程式是SiO2 + 4HF == SiF4↑ + 2H2O，故B正确；

C. 高炉炼铁的主要原理是高温条件下用一氧化碳还原氧化铁，反应方程式是3CO + Fe2O3 2Fe + 3CO2，故C错误；

D. 碳酸氢钠加热分解为碳酸钠、二氧化碳、水，小苏打做发酵粉的反应方程式是2NaHCO3 Na2CO3 + H2O + CO2↑，故D正确；

故答案选C。