题目内容
半导体工业用石英砂做原料通过下面三个重要反应生产单质硅：
用石英砂生产1.00 kg纯硅，放出的总热量约为（ ）
A．2.43×104KJ B．2．35×104 kJ C．2．23×104 kJ D．2．14×104 kJ
练习册系列答案
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反应CO（g）＋H2O（g）
CO2（g）＋H2（g） ΔH=－41.2 kJ·mol-1，在800℃时的化学平衡常数K＝1.0 。某时刻测得该温度下的密闭容器中各物质的物质的量见下表：
CO | H2O | CO2 | H2 |
0.5 mol | 8.5 mol | 2.0 mol | 2.0 mol |
此时反应中正、逆反应速率的关系式是
A．v（正）＞v（逆） B．v（正）＜v（逆） C．v（正）＝v（逆) D．无法判断
H2SO4（浓）=
Na2SO4(aq)+H2O(1) △H3用质量分数为98%，密度为l.84g/cm3的浓硫酸配制250mL物质的量浓度为2mol/L的稀硫酸。
（1）需要使用的主要仪器有量筒、烧杯、玻璃棒、胶头滴管、___________。
（2）其操作步骤可分解为以下几步：
A．用量筒量取_________mL浓硫酸，____________（简述浓硫酸的稀释操作），冷却 |
B．用蒸馏水洗涤烧杯和玻璃棒2～3次，将每次的洗涤液都转移入容量瓶里 |
C．将稀释后的硫酸小心地用玻璃棒引流至容量瓶里 |
D．检查250mL容量瓶是否漏水 |
E．将蒸馏水直接加入容量瓶至刻度线以下2cm处
F．盖紧瓶塞，上下倒转摇匀溶液
G．用胶头滴管向容量瓶里逐滴加入蒸馏水，到凹液面最低点恰好与刻度线相切
请据此填写：
① 完成上述步骤中的空白处。
② 下列情况对所配制的稀硫酸浓度偏低的是_______________
a．A 步操作时量筒量取浓硫酸时仰视刻度线 b．G步操作时仰视溶液的凹液面
c．D 步操作后容量瓶留有少量的水 d．A步操作，硫酸未冷却即进行C步操作