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【题目】室温下向10mL pH3的醋酸溶液中加水稀释后,下列说法正确的是(  )

A.溶液中导电粒子的数目减少

B.溶液中减小

C.醋酸的电离程度增大,cH+)也增大

D.溶液中增大

【答案】D

【解析】

A. 室温下向10mL pH3的醋酸溶液中加水稀释后,醋酸的电离程度变大,溶液中导电粒子的数目增大,A不正确;

B. 室温下向10mL pH3的醋酸溶液中加水稀释后,醋酸的电离程度变大,变大,变小,故溶液中增大,B不正确;

C. 室温下向10mL pH3的醋酸溶液中加水稀释后,虽然醋酸的电离程度增大,但是溶液的酸性变弱,c(H+)减小,C不正确;

D. 室温下向10mL pH3的醋酸溶液中加水稀释后,醋酸的电离程度变大,变大,变小,故溶液中增大,D正确。

综上所述,相关说法正确的是D,故选D

练习册系列答案
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【题目】甲硅烷广泛用于电子工业、汽车领域,三氯氢硅(SiHCl3)是制备甲硅烷的重要原料。回答下列问题:

(1)工业上以硅粉和氯化氢气体为原料生产SiHCl3时伴随发生的反应有:

Si(s)4HCl(g)=SiCl4(g)2H2(g) H-241kJ/mol

SiHCl3(g)HCl(g)=SiCl4(g)H2(g) H-31kJ/mol

以硅粉和氯化氢气体生产SiHCl3的热化学方程式是 ___

(2)铝锂形成化合物LiAlH4既是金属储氢材料又是有机合成中的常用试剂,遇水能得到无色溶液并剧烈分解释放出H2,请写出其水解反应化学方程式____LiAlH4在化学反应中通常作_______(氧化还原”)剂。工业上可用四氯化硅和氢化铝锂(LiAlH4)制甲硅烷,反应后得甲硅烷及两种盐。该反应的化学方程式为 _________

(3)三氯氢硅歧化也可制得甲硅烷。反应2SiHCl3(g)SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)为歧化制甲硅烷过程的关键步骤,此反应采用一定量的PA100催化剂,在不同反应温度下测得SiHCl3的转化率随时间的变化关系如图所示。

353.15K时,平衡转化率为____,该反应是____反应(填放热”“吸热)。

323.15K时,要缩短反应达到平衡的时间,可采取的最佳措施是____

(4)比较ab处反应速率的大小:Va ___Vb (填”“)。已知反应速率V=K1x2SiHCl3V=K2xSiH2Cl2xSiCl4K1K2分别是正、逆反应的速率常数,与反应温度有关,x为物质的量分数,则在353.15KK1/K2 ____(保留3位小数)。

(5)硅元素最高价氧化物对应的水化物是H2SiO3,室温下,0.1mol/L的硅酸钠溶液和0.1mol/L的碳酸钠溶液,碱性更强的是 ___,其原因是____。已知:H2SiO3 :Ka1=2.0×10-10Ka2=2.0×10-12H2CO3 Ka1=4.3×10-7Ka2=5.6×10-11

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