题目内容

四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法，有关反应的化学方程式为：
SiCl4＋2H24HCl＋Si
下列说法不合理的是
A．反应制得的硅可用于制造半导体材料
B．增大压强有利于加快上述反应的化学反应速率
C．四氯化硅可以由粗硅与氯气通过化合反应制得
D．混入少量空气对上述反应无影响
D

试题分析：所给的反应是工业上提炼高纯度硅的关键反应，A说法合理；增大压强对于有气体参加的反应能加快反应速率，B说法合理；C说法正确；混入空气后硅和氧气反应使所得产物含有二氧化硅而不纯，D说法错误。
点评：熟悉工业上制备高纯硅的化学反应原理和技术问题
练习册系列答案
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关于下列四个说法正确的是
A．已知图①是体系Fe3++3SCN-=Fe(SCN)3中c[Fe(SCN)3]与温度T的平衡图像，则A点与B点相比，A点的Fe3+浓度大
B．图②表示镁和铝分别与等浓度、等体积的过量稀硫酸反应，产生气体的体积V(H2) 与时间t的关系。则反应中镁和铝的反应速率之比为2 : 3
C．图③可用于吸收HCl气体，并防倒吸
D．图④是某温度下，相同体积，相同pH的盐酸和醋酸溶液分别加水稀释，pH随溶液体积V变化的曲线。II为醋酸稀释时pH的变化曲线
关于0.1 mol/L碳酸钠溶液的叙述正确的是        
A．溶液中粒子的种类共有5种
B．加水稀释时溶液中所有离子浓度均减小
C．升高温度，平衡向促进水解的方向移动
D．加入氢氧化钠固体，可以使溶液中c(Na+) : c(CO32-)=2:1
在醋酸中存在电离平衡：CH3COOH  CH3COO-+H+，要使溶液中的c(CH3COO-)提高，应采取的措施是（   ）
A．加水　B．加热C．加CH3COONa固体D．加很稀的NaOH溶液
已知常温常压下， N≡N键的键能是946 KJ/mol 、N-H键的键能是391 KJ/mol、H-H 键的键能是436KJ/mol 。现有甲、乙两个容积相同的定容密闭容器，在常温下：①向密闭容器甲中通入1 mol N2和3 mol H2，达到平衡时放出热量Q1 kJ。②向密闭容器乙中通入0.5 mol N2和1.5 mol H2，达到平衡时放出热量Q2 kJ。则下列关系式正确的是（    ）
A．92＞Ql＞2Q2B．92＝Q1＜2Q2 C．Q1＝2Q2＝92D．Q1＝2Q2＜92
2SO2(g)＋O2(g)  2SO3(g)是制备硫酸的重要反应。下列叙述正确的是(　　)
A．催化剂V2O5不改变该反应的逆反应速率
B．恒压，通入稀有气体，反应速率不变
C．该反应是放热反应，降低温度将缩短反应达到平衡的时间
D．在t1、t2时刻，SO3(g)的浓度分别是c1、c2，则时间间隔t1～t2内，SO2(g)消耗的平均速率为
一定条件下，达到平衡状态时的可逆反应2A(g)  2B(g)+C(g)（正反应为吸热反应），要使B的物质的量增大，而正反应速率降低，可采取的措施是
A．增加A的物质的量B．减小A的物质的量
C．升高体系的温度D．减小体系的压强
下列说法正确的是(      )
A．可逆反应的特征是正反应速率和逆反应速率相等
B．在其他条件不变时，使用催化剂只能改变反应速率，而不能改变化学平衡状态
C．在其他条件不变时，升高温度可以使平衡向放热反应方向移动
D．在其他条件不变时，增大压强一定会破坏气体反应的平衡状态
关于下列各图的叙述，正确的是（    ）
A．图甲中a、b曲线分别表示反应CH2＝CH2 (g) + H2(g)→CH3CH3(g)；ΔH< 0使用和未使用催化剂时，反应过程中的能量变化
B．图乙表示恒温恒容条件下发生的可逆反应2NO2(g) N2O4(g)中，各物质的浓度与其消耗速率之间的关系，其中交点A对应的状态为化学平衡状态
C．图丙中曲线表示反应2SO2(g) + O2(g) 2SO3(g)；ΔH < 0 正、逆反应的平衡常数K
随温度的变化
D．图丁中起始时HA的物质的量浓度大于HB

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