题目内容

【题目】锆及其化合物作为新材料,具有相当重要的意义。氧氯化锆(ZrOCl2)是制备锆系列材料的一种重要中间产品,用锆英砂(主要成分ZrSiO4)制备水合氧氯化锆有多种方法,目前使用较多的是一酸一碱法,其主要流程如图:

已知:①Na2ZrO3在强碱性的介质中不溶解或水解;硅酸和原硅酸都具有吸附性。

回答下列问题:

(1)“碱烧过程中生成碱熔料的化学方程式为___

(2)“水洗压滤工艺可以将30~70%的硅除去,如图表示的是各种工艺变化对水洗除硅率的影响,则为了提高除硅率应采取的措施是___(任意回答两条即可)

(3)硅的去除还有一部分是通过上述流程中的___工艺实现的,这一部分硅转化成的物质是___(填化学式)

(4)水洗压滤的主要目的是除硅,则转型压滤的主要目的是除去___,转型压滤过程中生成ZrO(OH)2的离子方程式为___

(5)操作M包括___、过滤、洗涤、干燥;上述工艺若不加改进,锆的损失会比较大,为了减少锆的损失,应该改进的措施是___

(6)称取3.220g产品(水合氧氯化锆),溶于盐酸配制成1000mL溶液,取25mL于锥形瓶中,加热至90℃以上,并滴入2滴二甲酚橙指示剂,趁热用0.0125molL-1EDTA标准溶液滴定,当溶液由红色变为黄色且半分钟不褪色时,消耗EDTA溶液20mL。计算水合氧氯化锆的化学式为___(EDTAZrO2+在上述条件下以11比例反应)

【答案】ZrSiO4+4NaOHNa2SiO3+Na2ZrO3+2H2O(ZrSiO4+6NaOHNa4SiO4+Na2ZrO3+3H2O) 水料比在3141之间均可;混合后立即搅拌;搅拌时间3060分钟均可 转型压滤酸化压滤 H2SiO3(H4SiO4) (Na+或氯化钠) Na2ZrO3+2H+=2Na++ZrO(OH)2 蒸发浓缩、冷却结晶 将滤渣洗涤,并将洗涤液并入母液中,重复操作M ZrOCl2·8H2O

【解析】

锆英砂(主要成分为ZrSiO4,也可表示为ZrO2SiO2)加NaOH熔融,二氧化硅反应转化为硅酸钠,发生反应为ZrSiO4+4NaOHNa2SiO3+Na2ZrO3+2H2O(ZrSiO4+6NaOHNa4SiO4+Na2ZrO3+3H2O)ZrSiO4转化为Na2SiO3(Na4SiO4)Na2ZrO3,结合已知信息①Na2ZrO3在强碱性的介质中不溶解或水解,再将碱烧后的Na2SiO3Na2ZrO3水洗将Na2SiO3(Na4SiO4)转化为H2SiO3(H4SiO4)除去,再用盐酸进行转型压滤,将未除尽的Na2SiO3(Na4SiO4)转化为H2SiO3(H4SiO4)除去,同时酸性条件下Na2ZrO3转化为ZrO(OH)2沉淀,过滤后得到滤液2中主要为氯化钠,发生反应为Na2ZrO3+2H+=2Na++ZrO(OH)2;再加入盐酸进行酸化压滤,ZrO(OH)2与盐酸反应转化为ZrOCl2,经过蒸发浓缩、冷却结晶、过滤、洗涤、干燥制得水合氧氯化锆,据此分析解答。

(1)根据分析,碱烧过程中生成碱熔料的化学方程式为ZrSiO4+4NaOHNa2SiO3+Na2ZrO3+2H2O(ZrSiO4+6NaOHNa4SiO4+Na2ZrO3+3H2O)

(2)“水洗压滤工艺可以将30~70%的硅除去,根据图示各种工艺变化对水洗除硅率的影响,当水料比在3141之间、混合后立即搅拌、搅拌时间3060分钟,可使除硅率最高,则为了提高除硅率应采取的措施是水料比在3141之间均可;混合后立即搅拌;搅拌时间3060分钟均可;

(3)根据分析,硅的去除还有一部分是通过上述流程中的转型压滤酸化压滤工艺实现的,这一部分硅转化成的物质是H2SiO3(H4SiO4)

(4)根据分析,水洗压滤的主要目的是除硅,则转型压滤的主要目的是除去钠或Na+或氯化钠,转型压滤过程中生成ZrO(OH)2的离子方程式为Na2ZrO3+2H+=2Na++ZrO(OH)2

(5)操作M包括蒸发浓缩、冷却结晶、过滤、洗涤、干燥;上述工艺若不加改进,锆的损失会比较大,为了减少锆的损失,应该改进的措施是将滤渣洗涤,并将洗涤液并入母液中,重复操作M

(6)根据题意,25mL产品溶液消耗EDTA标准溶液的物质的量为0.02L×0.0125molL-1=0.00025mol,由于EDTAZrO2+在上述条件下以11比例反应,则ZrO2+的物质的量为0.00025mol,则3.220产品(水合氧氯化锆)中水合氧氯化锆的物质的量=0.00025mol×=0.01mol,氧氯化锆的物质的量也为0.01mol,因此所含结晶水的质量=3.22g-0.01mol×178g/mol=1.44g,则水的物质的量为0.08mol,则氧氯化锆与水的物质的量的物质的量之比=0.01mol:0.08mol=1:8,则水合氧氯化锆的化学式为ZrOCl2·8H2O

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