[题目]在无机非金属材料中.硅一直扮演着主要的角色.下列物质中主要成分是Si的是( )A. 水晶B. 玛瑙C. 石英D. 计算机芯片题目和参考答案——青夏教育精英家教网—

题目内容

【题目】在无机非金属材料中，硅一直扮演着主要的角色。下列物质中主要成分是Si的是(　　)

A. 水晶B. 玛瑙C. 石英D. 计算机芯片

【答案】D

【解析】

水晶、石英、玛瑙的主要成分为二氧化硅，硅芯片为硅的单质，所以主要成分不是SiO2的物质是硅芯片,所以D选项是正确的；
故答案选D。

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（1）前3 min，v(C)=_____________。

（2）当下列物理量不再发生变化时，表明该反应已达到平衡状态的是________（填选项字母）。

A．混合气体的压强 B．混合气体的密度

C．混合气体的平均相对分子质暈

D．B的物质的量 E．混合气体的总物质的量

（3）T℃时，该反应的平衡常数K=____________。（小数点后保留2位）

（4）反应达到平衡后，下列措施对A的转化率无影响的是___________（填选项字母）。

A．保持体积不变，再通入2molA和1molB

B．移走一部分D C．把容器的体积缩小一倍 D．升高温度

（5）T℃时，容积为1 L的密闭容器中，起始时充入0.2 mol A、0.4 mol B、0.3 mol C、0.5 molD，此时v(正)________ (逆)（填“＞”、“＜”或“=”），判断的依据是____________________________。

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已知：在质谱图中烃A的最大质荷比为118，其苯环上的一氯代物共三种，核磁共振氢谱显

示峰面积比为3:2:2:2:1。

根据以上信息回答下列问题：

（1）A的官能团名称为__________________，B→C的反应条件为_____________，E→F的反应类型为_____________。

（2）I的结构简式为____________________，若K分子中含有三个六元环状结构，则其分子式为________________。

（3）D与新制氢氧化铜悬浊液反应的离子方程式为_______________________________。

（4）H的同分异构体W能与浓溴水反应产生白色沉淀，1 mol W参与反应最多消耗3 mol Br2，请写出所有符合条件的W的结构简式___________________________________。

（5）J是一种高分子化合物，则由C生成J的化学方程式为

______________________________________________________________________。

（6）已知：（R为烃基）

设计以苯和乙烯为起始原料制备H的合成路线（无机试剂任选）。

[合成路线示例：]

_____________________________________________________________________。

【题目】硫酰氯(SO2Cl2)是一种重要的化工试剂，实验室利用SO2(g)和Cl2(g)合成硫酰氯的实验装置如下图所示（夹持装置已省略）：

己知：①SO2(g)+Cl2(g)SO2Cl2(I) ΔH=-97kJ/mol；

②硫酰氯常温下为无色液体，熔点为-54.1℃，沸点为69.1℃，在潮湿空气中易“发烟”；

③100℃以上或长时间存放硫酰氯都易分解，生成二氧化硫和氯气

回答下列问题：

(1)装置H的名称是_______________，装置E中活性炭的作用是 _____________。

(2)请指出下列装置中应盛入的试剂：B_____________、F________________。

(3)若采用实验室制法制取Cl2，其发生装置应选择_________装置 (用A、B、C等编号填空〉，其中发生反应的离子方程式为____________________。

(4)为什么硫酰氯在潮湿空气中易“发烟”____________ (结合化学方程式说明)。

(5)为了使通入反应器的SO2和Cl2达到最佳反应比例，可观察_________(填现象）来反映通入气体的速率，利用反应液的滴加快慢对气体通入速率加以控制。

(6)该装置尚存在明显的缺陷，请指出_____________________。

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