电子工业中清洗硅片上的SiO2(s)的反应是:SiO2=SiF4(g)+2H2O(g)ΔH=-94.0kJ?mol-1ΔS=-75.8J?mol-1?K-1设ΔH和ΔS不随温度而改变.试求此反应自发进行的温度条件. 题目和参考答案——青夏教育精英家教网—

题目内容

电子工业中清洗硅片上的SiO₂（s）的反应是：
SiO₂（s）+4HF（g）=SiF₄（g）+2H₂O（g）
ΔH（298K）=-94.0kJ?mol^-1
ΔS（298K）=-75.8J?mol^-1?K^-1
设ΔH和ΔS不随温度而改变，试求此反应自发进行的温度条件。

此反应自发进行的最高温度为1240K。

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