Question

10分）电子工业中清洗硅片上的SiO₂（s）的反应是

SiO₂(s)+4HF(g) ==SiF₄(g)+2H₂O(g) △H(298.15K)=-94.0kJ·mol^-1  △S(298.15K)=-75.8J·mol^-1 ·K^-1 设△H和△S不随温度而变，试求此反应自发进行的温度条件。

 

Answer 1

【答案】

1240K

【解析】

试题分析：根据△G＝△H－T·△S可知

当△G＜0时反应是自发进行的

所以

所以该反应自发进行的温度是不难超过1240K

考点：考查△G的有关计算

点评：本题是基础性试题的考查，试题注重基础，难易适中。该题有利于培养学生的规范答题能力，提高学习效率。