题目内容
电子工业中清洗硅片上的SiO2(s)的反应是：?SiO2(s)+4HF(g) 
SiF4(g)+2H2O(g)?ΔH(298.15 K)=-94.0 kJ·mol-1?
ΔS（298.15 K）=-75.8 J·mol-1·K-1?
设ΔH和ΔS不随温度而变化，试求此反应自发进行的温度条件。????????????
解析：要使反应能够自发进行，则ΔH-TΔS＜0即-94.0 kJ·mol-1-T×(-75.8×10-3 kJ·mol-1·K-1)＜0，T＜
=1 240 K，即只有在温度低于1 240 K时反应才能自发进行。
答案：温度低于1 240 K时反应才能自发进行。
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