题目内容

【题目】高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料，又称“半导体”材料，它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”。这种材料可以按下列方法制备：
SiO2Si(粗)SiHCl3Si(纯)，下列说法正确的是(　　)

A.步骤①的化学方程式为SiO2＋CSi＋CO2↑

B.步骤①、②、③中每生成或反应1 mol Si，转移4 mol电子

C.二氧化硅能与氢氟酸反应，而硅不能与氢氟酸反应

D.SiHCl3(沸点33.0 ℃)中含有少量的SiCl4(沸点67.6 ℃)，通过蒸馏(或分馏)可提纯SiHCl3

【答案】D

【解析】

A.二氧化硅高温下与C反应生成CO气体；

B.氧化还原反应得失电子守恒判断即可；

C.硅能与氢氟酸反应生成SiF4和氢气；

D.由沸点可以知道,为相差30℃以上的两种液体。

A.二氧化硅高温下与C反应生成CO气体,即步骤①的化学方程式为: SiO2＋2CSi＋2CO↑，故A错误；

B.步骤①中Si的化合价降低4，转移电子数为4mol；步骤②中生成SiHCl3，硅元素化合价升高2，步骤③中硅元素的化合价降低2，所以每生成或反应1molSi，均转移2mol电子,故B错误；

C.硅能与氢氟酸反应生成SiF4和氢气,故C错误；

D.沸点相差30℃以上的两种液体可以采用蒸馏的方法分离，故D正确；

故答案选D。

练习册系列答案
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回答下列问题：

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请回答下列问题：

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A. ①②③④⑤ B. ①②⑤⑥ C. ①②④⑤⑥ D. 全部正确

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