题目内容
20.下列生产、生活等实际应用,不能用勒夏特列原理解释的是( )A. | 合成氨工厂通常采用20 MPa~50 MPa压强,以提高原料的利用率 | |
B. | 合成氨工业中使反应温度达到500℃有利于氨的合成 | |
C. | 合成三氧化硫过程中使用过量的氧气,以提高二氧化硫的转化率 | |
D. | 阴暗处密封有利于氯水的储存 |
分析 勒夏特列原理为:如果改变影响平衡的条件之一,平衡将向着能够减弱这种改变的方向移动,使用勒夏特列原理时,该反应必须是可逆反应,否则勒夏特列原理不适用.
解答 解:A.合成氨反应中,增大压强可使平衡向正反应分析移动,可提高原料的利用率,可用勒夏特列原理解释,故A不选;
B.合成氨反应为放热反应,升高温度,不利于平衡向正向移动,但温度过低,反应速率较低,不利于工业生产,主要考虑催化剂的活性,不能用勒夏特列原理解释,故B选;
C.SO2催化氧化成SO3的反应,加入过量的空气,是增加氧气的提高二氧化硫的转化率,能用勒夏特列原理解释,故C不选;
D.氯阴暗处密封有利于氯水的储存,因为氯气与水反应生成次氯酸,该反应是可逆反应,而次氯酸见光易分解,如果不避光平衡正向移动,氯水就变成盐酸,可用勒夏特列原理解释,故D不选;
故选:B.
点评 本题考查了勒夏特列原理的使用条件,难度不大,注意使用勒夏特列原理的前提必须是可逆反应.
练习册系列答案
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20.下列说法错误的是( )
A. | 某烃的分子式为 C10H14,它不能使溴水因反应而褪色,但可使酸性 KMnO4 溶液褪色,且分子结构中只有一个烷基,符合条件的芳香烃有 4 种(已知:KMnO44氧化) | |
B. | 2,4-二甲基-3,3-二乙基戊烷的一氯代物有4种 | |
C. | 甲烷与氯气的混合气体在光照条件下反应生成的有机化合物均无同分异构体 | |
D. | 乙烷与丙烯的物质的量共 1mol,完全燃烧生成 3molH2O |
11.下列反应中,属于取代反应的是( )
A. | CH4+2 O2$\stackrel{点燃}{→}$CO2+H2O | |
B. | CH2=CH2+HCl$\stackrel{一定条件}{→}$CH3CH2Cl | |
C. | 2 CH3CH2OH+O2$→_{△}^{Cu}$2 CH3CHO+2 H2O | |
D. |
8.下列物质的分类中.正确的一组是( )
分类、选项 | 酸 | 碱 | 盐 | 碱性氧化物 |
A | H2SO4 | Na2CO3 | NaHCO3 | CaO |
B | HCl | NH3•H2O | NaCl | Na2O |
C | CO2 | Cu(OH)2 | MgCl2 | Na2O |
D | HNO3 | KOH | CaO | CO |
A. | A | B. | B | C. | C | D. | D |
15.下列说法中正确的是( )
A. | 化学反应速率通常只能用反应物浓度的减少量表示 | |
B. | 加入反应物可使反应速率增大 | |
C. | 在研究反应速率变化的实验中.同时改变两个变量一定能更快得出有关规律 | |
D. | 对于反应2H2O2═2H2O+O2↑.加入MnO2或升高温度都能加快O2的生成速率 |
5.已知:2H2(g)+O2(g)═2H2O(l)△H=-571.6kJ•mol-1
2CH3OH(l)+3O2(g)═2CO2(g)+4H2O(l)△H=-1 452kJ•mol-1
H+(aq)+OH-(aq)═H2O(l)△H=-57.3kJ•mol-1
下列说法正确的是( )
2CH3OH(l)+3O2(g)═2CO2(g)+4H2O(l)△H=-1 452kJ•mol-1
H+(aq)+OH-(aq)═H2O(l)△H=-57.3kJ•mol-1
下列说法正确的是( )
A. | H2(g)的燃烧热为571.6 kJ•mol-1 | |
B. | $\frac{1}{2}$H2SO4(aq)+$\frac{1}{2}$Ba(OH)2(aq)═$\frac{1}{2}$BaSO4(s)+H2O(l)△H=-57.3 kJ•mol-1 | |
C. | 同质量的H2(g)和CH3OH(l)完全燃烧,H2(g)放出的热量多 | |
D. | 3H2(g)+CO2(g)═CH3OH(l)+H2O(l)△H=+131.4 kJ•mol-1 |
9.下列反应中,水既不是氧化剂又不是还原剂的氧化还原反应是( )
A. | SO3+H2O═H2SO4 | B. | Cl2+H2O═HCl+HClO | ||
C. | 2F2+2H2O═4HF+O2 | D. | 2Na+2H2O═2NaOH+H2↑ |
10.下列物质中,属于强电解质的是( )
A. | CH3COOH | B. | H2O | C. | NH3•H2O | D. | NaOH |