在FeCl3溶液蚀刻铜箔制造电路板的工艺中.废液处理和资源回收的过程简述如下:I:向废液中投入过量铁屑.充分反应后分离出固体和滤液,II:向滤液中加入一定量石灰水.调节溶液pH.同时鼓入足量的空气.己知:Ksp[Fe(OH)3]= 4.0×10-38回答下列问题:(1)FeCl3蚀刻铜箔反应的离子方程式为 :(2)过程I 加入铁屑的主要作用是 .分离得� 题目和参考答案——青夏教育精英家教网—

题目内容

(9分)

在FeCl3溶液蚀刻铜箔制造电路板的工艺中，废液处理和资源回收的过程简述如下：

I：向废液中投入过量铁屑，充分反应后分离出固体和滤液；

II：向滤液中加入一定量石灰水，调节溶液pH，同时鼓入足量的空气。

己知：Ksp[Fe(OH)3]= 4.0×10-38

回答下列问题：

(1)FeCl3蚀刻铜箔反应的离子方程式为：

(2)过程I 加入铁屑的主要作用是，分离得到固体的主要成分是，从固体中分离出铜需采用的方法是；

(3)过程II中发生反应的化学方程式为；

(4)过程II中调节溶液的pH为5，金属离子浓度为。(列式计算)

：（1）2Fe3++Cu = 2Fe2++Cu2+；（2）回收铜；Cu和Fe；加盐酸反应后过滤；（3）FeCl2+Ca(OH)2 =Fe(OH)2↓+CaCl2；4Fe(OH)2+O2+2H2O=4Fe(OH)3；（4）c(Fe3+)=4.0×10-38÷(10-9)3= 4.0×10-11 (mol/L)。

【解析】：（1）氯化铁溶液蚀刻铜板发生的离子方程式为：2Fe3++Cu = 2Fe2++Cu2+；（2）过程I中加入铁屑是为了回收铜；分离得到的固体是过量的铁屑和生成的铜；分离铁和铜时，可以加盐酸反应后过滤；（3）过程II中，加入石灰水的反应为：FeCl2+Ca(OH)2 =Fe(OH)2↓+CaCl2；生成氢氧化亚铁继续被氧化：4Fe(OH)2+ O2+ 2H2O= 4Fe(OH)3；（4）调节溶液的pH值为5，结合Ksp= c(Fe3+)·c(OH-)3和c(OH-)=Kw/c(H+)，可得：c(Fe3+)=4.0×10-38÷(10-9)3= 4.0×10-11 (mol/L)。