题目内容
【题目】据图回答下列问题:
(1)实验室利用A装置收集氧气的最佳时刻是_________________________。
(2)用收集到的氧气完成硫粉燃烧实验后,还需向集气瓶内加入适量氢氧化钠溶液,目的是_______________________(用化学方程式表示)。
(3)实验室制取二氧化碳若用B装置收集,则气体应从________端进入,制取的二氧化碳中常含有少量的氯化氢气体与水蒸气,欲使用C、D装置将以上杂质除去,则装置正确的连接顺序是_____________(用C、D装置端口字母表示)。
【答案】导管口冒出的气泡均匀连续时 SO2 +2NaOH === Na2SO3 + H2Obe -f- c- d
【解析】
(1)排水法收集气体时要等导管口气泡连续、均匀冒出时再收集,防止收集的气体不纯,故答案为:导管口冒出的气泡均匀连续时;(2)二氧化硫和氢氧化钠反应生成亚硫酸钠和水,故答案为:2NaOH+SO2 ═ Na2SO3+H2O;(3)若改用B装置收集二氧化碳,则气体应从b进入,因为二氧化碳的密度比空气的密度大,将空气挤压到集气瓶上部通过长管排出;二氧化碳中常含有少量的氯化氢气体与水蒸气,要先除杂质再干燥,除去氯化氢气体用饱和的碳酸氢钠溶液、干燥气体用浓硫酸,且洗气装置中导管要长进短出,因此装置正确的连接顺序是efcd,故答案为:b;e -f- c- d。
【题目】某校化学兴趣小组对以下三种品牌牙膏中摩擦剂成分进行调查,结果如下表:
牙膏品牌 | A儿童牙膏 | B防臭牙膏 | C透明牙膏 |
摩擦剂 | 氢氧化铝 | 碳酸钙 | 二氧化硅 |
(1)上述三种摩擦剂成分中属于酸性氧化物的是________(填化学式,下同);既能与强酸反应又能与强碱反应的是________。
(2)A儿童牙膏中摩擦剂成分与NaOH溶液反应的离子方程式是______________________________。
(3)从摩擦剂成分考虑,向B防臭牙膏样品中滴加少量稀盐酸,可观察到的现象是______________________________________,该反应的化学方程式为_______________________。
(4)C透明牙膏摩擦剂成分SiO2是工业制备晶体硅的原料,其反应原理是_______________(用化学反应方程式表示)。