题目内容
| 制造计算机芯片的主要原料是一种常见化合物，组成该化合物的元素来自地壳中含量最多的前两种，该化合物的化学式是 （ ）
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试题答案
D
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目前，计算机已进入千家万户．制造计算机的芯片需要大量的高纯硅，生产高纯硅的主要原料是沙子（主要成分为SiO2）．二氧化硅既不溶于水，也不溶于一般的酸溶液．
工业上生产高纯硅的主要过程示意图如下：
其主要反应原理为：
①SiO2+2C
Si（粗）+2CO ②Si（粗）+2Cl2
SiCl4
③SiCl4+2H2
Si（纯）+4HCl
请你根据上述材料，回答下列问题：
（1）由沙子制得高纯硅的反应原理中，属于化合反应的是 填数字代号，下同），属于置换反应的是 ．
（2）由粗硅提纯得到高纯硅必须在无氧的氛围中进行，除了考虑到硅易被氧化成二氧化硅外，还有一个原因是 ．
（3）生产过程示意图中的“物质A”用水吸收，可得副产品（一种常见的酸）的名称是 ．
（4）作为电器、电子、光纤等行业用高纯硅原料的沙子，纯度要求高，需要对普通沙子（含有少量的CaCO3、Fe2O3）进行提纯，其中用酸洗（用盐酸）和高纯水洗是两个最重要的步骤．请写出酸洗步骤中的两个反应的化学方程式分别是 、 ；判断用高纯水洗是否洗净的方法是：取少量最后的洗涤液于试管中，向其中滴加AgNO3溶液和稀硝酸，若无 现象，则表明残留物已洗净；否则，表明残留物未洗净．
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工业上生产高纯硅的主要过程示意图如下：
其主要反应原理为：
①SiO2+2C
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③SiCl4+2H2
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请你根据上述材料，回答下列问题：
（1）由沙子制得高纯硅的反应原理中，属于化合反应的是
（2）由粗硅提纯得到高纯硅必须在无氧的氛围中进行，除了考虑到硅易被氧化成二氧化硅外，还有一个原因是
（3）生产过程示意图中的“物质A”用水吸收，可得副产品（一种常见的酸）的名称是
（4）作为电器、电子、光纤等行业用高纯硅原料的沙子，纯度要求高，需要对普通沙子（含有少量的CaCO3、Fe2O3）进行提纯，其中用酸洗（用盐酸）和高纯水洗是两个最重要的步骤．请写出酸洗步骤中的两个反应的化学方程式分别是
（7分）目前，计算机已进入千家万户。制造计算机的芯片需要大量的高纯硅，生产高纯硅的主要原料是沙子（主要成分为SiO2）。二氧化硅既不溶于水，也不溶于一般的酸溶液。
工业上生产高纯硅的主要过程示意图如下：
其主要反应原理为：
①SiO2+2C
Si（粗）+2CO
②Si（粗）+2Cl2
SiCl4
③SiCl4+2H2
Si（纯）+4HCl
请你根据上述材料，回答下列问题：
（1）由沙子制得高纯硅的反应原理中，属于化合反应的是 （填数字代号，下同），属于置换反应的是 。
（2）由粗硅提纯得到高纯硅必须在无氧的氛围中进行，除了考虑到硅易被氧化成二氧化硅外，还有一个原因是 。
（3）生产过程示意图中的“物质A”用水吸收，可得副产品（一种常见的酸）的名称是 。
（4）作为电器、电子、光纤等行业用高纯硅原料的沙子，纯度要求高，需要对普通沙子（含有少量的CaCO3、Fe2O3）进行提纯，其中用酸洗（用盐酸）和高纯水洗是两个最重要的步骤。请写出酸洗步骤中的两个反应的化学方程式分别是 、 ；判断用高纯水洗是否洗净的方法是：取少量最后的洗涤液于试管中，向其中滴加AgNO3溶液和稀硝酸，若无 现象，则表明残留物已洗净；否则，表明残留物未洗净。
工业上生产高纯硅的主要过程示意图如下：
其主要反应原理为：
①SiO2+2C
Si（粗）+2CO②Si（粗）+2Cl2
SiCl4 ③SiCl4+2H2
Si（纯）+4HCl请你根据上述材料，回答下列问题：
（1）由沙子制得高纯硅的反应原理中，属于化合反应的是 （填数字代号，下同），属于置换反应的是 。
（2）由粗硅提纯得到高纯硅必须在无氧的氛围中进行，除了考虑到硅易被氧化成二氧化硅外，还有一个原因是 。
（3）生产过程示意图中的“物质A”用水吸收，可得副产品（一种常见的酸）的名称是 。
（4）作为电器、电子、光纤等行业用高纯硅原料的沙子，纯度要求高，需要对普通沙子（含有少量的CaCO3、Fe2O3）进行提纯，其中用酸洗（用盐酸）和高纯水洗是两个最重要的步骤。请写出酸洗步骤中的两个反应的化学方程式分别是 、 ；判断用高纯水洗是否洗净的方法是：取少量最后的洗涤液于试管中，向其中滴加AgNO3溶液和稀硝酸，若无 现象，则表明残留物已洗净；否则，表明残留物未洗净。
目前，计算机已进入千家万户．制造计算机的芯片需要大量的高纯硅，生产高纯硅的主要原料是沙子（主要成分为SiO2）．二氧化硅既不溶于水，也不溶于一般的酸溶液．
工业上生产高纯硅的主要过程示意图如下：
其主要反应原理为：
①SiO2+2C
Si（粗）+2CO②Si（粗）+2Cl2
SiCl4
③SiCl4+2H2
Si（纯）+4HCl
请你根据上述材料，回答下列问题：
（1）由沙子制得高纯硅的反应原理中，属于化合反应的是______填数字代号，下同），属于置换反应的是______．
（2）由粗硅提纯得到高纯硅必须在无氧的氛围中进行，除了考虑到硅易被氧化成二氧化硅外，还有一个原因是______．
（3）生产过程示意图中的“物质A”用水吸收，可得副产品（一种常见的酸）的名称是______．
（4）作为电器、电子、光纤等行业用高纯硅原料的沙子，纯度要求高，需要对普通沙子（含有少量的CaCO3、Fe2O3）进行提纯，其中用酸洗（用盐酸）和高纯水洗是两个最重要的步骤．请写出酸洗步骤中的两个反应的化学方程式分别是______、______；判断用高纯水洗是否洗净的方法是：取少量最后的洗涤液于试管中，向其中滴加AgNO3溶液和稀硝酸，若无______现象，则表明残留物已洗净；否则，表明残留物未洗净．
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工业上生产高纯硅的主要过程示意图如下：
其主要反应原理为：
①SiO2+2C
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③SiCl4+2H2
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请你根据上述材料，回答下列问题：
（1）由沙子制得高纯硅的反应原理中，属于化合反应的是______填数字代号，下同），属于置换反应的是______．
（2）由粗硅提纯得到高纯硅必须在无氧的氛围中进行，除了考虑到硅易被氧化成二氧化硅外，还有一个原因是______．
（3）生产过程示意图中的“物质A”用水吸收，可得副产品（一种常见的酸）的名称是______．
（4）作为电器、电子、光纤等行业用高纯硅原料的沙子，纯度要求高，需要对普通沙子（含有少量的CaCO3、Fe2O3）进行提纯，其中用酸洗（用盐酸）和高纯水洗是两个最重要的步骤．请写出酸洗步骤中的两个反应的化学方程式分别是______、______；判断用高纯水洗是否洗净的方法是：取少量最后的洗涤液于试管中，向其中滴加AgNO3溶液和稀硝酸，若无______现象，则表明残留物已洗净；否则，表明残留物未洗净．
（7分）目前，计算机已进入千家万户。制造计算机的芯片需要大量的高纯硅，生产高纯硅的主要原料是沙子（主要成分为SiO2）。二氧化硅既不溶于水，也不溶于一般的酸溶液。
工业上生产高纯硅的主要过程示意图如下：
其主要反应原理为：
①SiO2+2C
Si（粗）+2CO
②Si（粗）+2Cl2
SiCl4
③SiCl4+2H2
Si（纯）+4HCl
请你根据上述材料，回答下列问题：
（1）由沙子制得高纯硅的反应原理中，属于化合反应的是 （填数字代号，下同），属于置换反应的是 。
（2）由粗硅提纯得到高纯硅必须在无氧的氛围中进行，除了考虑到硅易被氧化成二氧化硅外，还有一个原因是 。
（3）生产过程示意图中的“物质A”用水吸收，可得副产品（一种常见的酸）的名称是 。
（4）作为电器、电子、光纤等行业用高纯硅原料的沙子，纯度要求高，需要对普通沙子（含有少量的CaCO3、Fe2O3）进行提纯，其中用酸洗（用盐酸）和高纯水洗是两个最重要的步骤。请写出酸洗步骤中的两个反应的化学方程式分别是 、 ；判断用高纯水洗是否洗净的方法是：取少量最后的洗涤液于试管中，向其中滴加AgNO3溶液和稀硝酸，若无 现象，则表明残留物已洗净；否则，表明残留物未洗净。
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