下列有关说法正确的是( )A．根据电离方程式HCl=H++Cl-.判断HCl分子里存在离子键B．分子晶体的堆积均为分子密堆积C．NCl3分子中.原子的最外层电子都满足了8电子稳定结构D．在水中氢.氧原——青夏教育精英家教网—

离子反应为aMnO₄^－+ bI^－+x H⁺→y Mn^２＋+ cI₂+ dIO₃^－+ zH₂O；根据该离子方程式，下列说法正确的是（）

A．氧化性MnO₄^－＞IO₃^－

B．c=d=5，则该反应转移电子数为30e

C．该反应的氧化产物只有IO₃^－

D．a、b、c、d之间的关系是：5a=2c+6d；b=2c+d

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海洋中有丰富的食品、矿产、能源、药物和水产资源，如图为海水利用的部分过程．

回答下列有关问题．
（1）下列有关说法正确的是

．
A．目前国际上主要使用蒸馏法的“海水淡化”技术，得高纯度淡水
B．用澄清的石灰水可鉴别NaHCO₃和Na₂CO₃
C．在第③、④、⑤步骤中，溴元素均被氧化
D．工业上通过电解饱和NaCl溶液制取金属钠
（2）写出第③步骤的化学反应方程式

．
（3）工业上利用电解饱和食盐水可制得重要化工产品，又称为“氯碱工业”．氯气的工业制取装置如图1，回答：
①若饱和食盐水中含有酚酞，通电后

（填a或b）侧先变红．
②电解反应的化学方程式为

．
③氯气制成氯水，用玻璃棒蘸取新制氯水滴在pH试纸中部，观察到的现象是

．

（4）工业上以NaCl、NH₃、CO₂等为原料先制得NaHCO₃，进而生产出纯碱．有关反应的化学方程式为：
NH₃+CO₂+H₂O═NH₄HCO₃；
NH₄HCO₃+NaCl═NaHCO₃↓+NH₄Cl；
2NaHCO₃

△

.

Na₂CO₃+CO₂↑+H₂O
某活动小组根据上述制碱原理，进行碳酸氢钠的制备实验．
①一位同学将二氧化碳气体通入含氨的饱和食盐水中制备碳酸氢钠，实验装置如图3所示（图中夹持、固定用的仪器未画出）．试回答下列有关问题：

Ⅰ、乙装置中的试剂是

，其作用是

．
Ⅱ、丁装置中稀硫酸的作用是

．
Ⅲ、实验结束后，分离出NaHCO₃ 晶体的操作是

（填分离操作的名称），该操作所需要的玻璃仪器有

．
②碳酸氢钠受热所得固体12.28g与足量的石灰水充分反应，所得沉淀经洗涤、干燥质量为12.00g，则所得固体中碳酸钠的质量分数为

．
③请你再设计出一种实验室制取少量碳酸氢钠的方法：

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（14分）元素单质及其化合物有广泛用途，请根据周期表中第三周期元素相关知识回答下列问题：
（1）按原子序数递增的顺序（稀有气体除外），以下说法正确的是               。
a．原子序数和离子半径均减小              b．金属性减弱，非金属性增强
c．氧化物对应的水合物碱性减弱，酸性增强 d．单质的熔点降低
（2）原子最外层电子数与次外层电子数相同的元素名称为           ，氧化性最弱的简单阳离子是   。
（3）已知：

化合物	MgO	Al₂O₃	MgCl₂	AlCl₃
类型	离子化合物	离子化合物	离子化合物	共价化合物
熔点/℃	2800	2050	714	191

工业制镁时，电解MgCl₂而不电解MgO的原因是；制铝时，电解Al₂O₃而不电解AlCl₃的原因是。
（4）晶体硅（熔点1410℃）是良好的半导体材料。由粗硅制纯硅过程如下：

写出SiCl₄的电子式：            ；在上述由SiCl₄制纯硅的反应中，测得每生成1.12kg纯硅需吸收akJ热量，写出该反应的热化学方程式：                                 。
（5）P₂O₅是非氧化性干燥剂，下列气体不能用浓硫酸干燥，可用P₂O₅干燥的是          。
a． NH₃        b． HI        c． SO₂      d ． CO₂
（6）KClO₃可用于实验室制O₂，若不加催化剂，400℃时分解只生成两种盐，其中一种是无氧酸盐，另一种盐的阴阳离子个数比为1:1。写出该反应的化学方程式：                                   。

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（14分）元素单质及其化合物有广泛用途，请根据周期表中第三周期元素相关知识回答下列问题：
（1）按原子序数递增的顺序（稀有气体除外），以下说法正确的是               。
a．原子序数和离子半径均减小              b．金属性减弱，非金属性增强
c．氧化物对应的水合物碱性减弱，酸性增强 d．单质的熔点降低
（2）原子最外层电子数与次外层电子数相同的元素名称为           ，氧化性最弱的简单阳离子是   。
（3）已知：

化合物	MgO	Al₂O₃	MgCl₂	AlCl₃
类型	离子化合物	离子化合物	离子化合物	共价化合物
熔点/℃	2800	2050	714	191

工业制镁时，电解MgCl₂而不电解MgO的原因是；制铝时，电解Al₂O₃而不电解AlCl₃的原因是。
（4）晶体硅（熔点1410℃）是良好的半导体材料。由粗硅制纯硅过程如下：

写出SiCl₄的电子式：            ；在上述由SiCl₄制纯硅的反应中，测得每生成1.12kg纯硅需吸收akJ热量，写出该反应的热化学方程式：                                 。
（5）P₂O₅是非氧化性干燥剂，下列气体不能用浓硫酸干燥，可用P₂O₅干燥的是          。
a． NH₃        b． HI        c． SO₂      d ． CO₂
（6）KClO₃可用于实验室制O₂，若不加催化剂，400℃时分解只生成两种盐，其中一种是无氧酸盐，另一种盐的阴阳离子个数比为1:1。写出该反应的化学方程式：                                   。

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常温下，向20mL 0.2mol/L H2A溶液中滴加0.2 mol/L NaOH溶液。有关微粒的物质的量变化如下图（其中I代表H2A，II代表HA-，III代表A2-），根据图示判断，下列说法正确的是

A．H2A在水中的电离方程式是： H2A? === H+? +? HA－? ；? HA-?????? H+? +? A2－

B．当V(NaOH)=20mL时，溶液中各粒子浓度的大小顺序为：c(Na+)＞c(HA-)＞c(H+)＞c(A2-)＞c(OH-)

C．等体积等浓度的NaOH溶液与H2A溶液混合后，其溶液中水的电离程度比纯水大

D．当V(NaOH)=30mL时，溶液中存在以下关系：2c(H+）+ c(HA-）+ 2c(H2A）＝ c(A2-）+ 2 c(OH-)

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常温下，向20 mL 0．2 mol/L H₂A溶液中滴加0．2 moI/L NaOH溶液。有关微粒的物质的量变化如下图所示（其中I代表H₂A，Ⅱ代表HAˉ，Ⅲ代表A²ˉ），根据图示判断，下列说法正确的是（）

A．当V[NaOH（aq）] =20 mL时，溶液中离子浓度大小关系：c（Na⁺）>c（HAˉ）>c（H⁺）>c（A²ˉ）>c（OHˉ）

B．等体积等浓度的NaOH溶液与H₂A溶液混合后，其溶液中水的电离程度比纯水大

C．H₂A第一步电离的方程式为：H₂A= HAˉ +H⁺

D．向NaHA溶液加入水稀释的过程中，pH可能增大也可能减少

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常温下，向20mL 0.2mol/L H₂A溶液中滴加0.2 mol/L NaOH溶液。有关微粒的物质的量变化如下图（其中I代表H₂A，II代表HA^-，III代表A^2-），根据图示判断，下列说法正确的是

A．H₂A在水中的电离方程式是： H₂A === H⁺ + HA^－； HA^- H⁺ + A²^－
B．当V(NaOH)=20mL时，溶液中各粒子浓度的大小顺序为：c(Na⁺)＞c(HA^-)＞c(H⁺)＞c(A^2-)＞c(OH^-)
C．等体积等浓度的NaOH溶液与H₂A溶液混合后，其溶液中水的电离程度比纯水大
D．当V(NaOH)=30mL时，溶液中存在以下关系：2c(H⁺）+ c(HA^-）+ 2c(H₂A）＝ c(A^2-）+ 2 c(OH^-)

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