A.F₂               B.HF                 C.KOH溶液                D.Cl₂

A.F₂                B.HF                 C.KOH溶液               D.Cl₂

在室温下，下列物质不与晶体硅反应的是（    ）

A.F₂            B.HF                 C.KOH溶液                D.Cl₂

在室温下，下列物质不与晶体硅反应的是（    ）

A.F₂               B.HF                 C.KOH溶液                D.Cl₂

在室温下，下列物质不与晶体硅反应的是（    ）

A.F₂               B.HF               C.KOH溶液          D.Cl₂

晶体硅是一种重要的非金属材料，在现代电子工业中具有非常重要的应用．工业上制备高纯硅的主要步骤如下：

（1）下列有关硅及化合物的说法，正确的是______．
A．石英的主要成分是SiO₂
B．太阳能电池使用单质硅做材料，其应用有利于环保、节能
C．粗硅制备高纯硅的过程不涉及氧化还原反应
D．玻璃、水泥、陶瓷都属于硅酸盐产品
（2）SiCl₄在室温下为无色液体，易挥发，粗硅与氯气反应得到的粗SiCl₄中含有大量固体杂质，通过“操作A”提纯得到纯SiCl₄，操作A的名称是______．
（3）整个制备过程必须严格控制无水无氧．H₂还原SiCl₄过程中发生的反应是：______在该过程中若有O₂混入，可能引起的后果是______．