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光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料,某一光刻胶的主要成分如图所示,下列有关说法正确的是( )
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试题答案
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光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料,某一光刻胶的主要成分如图所示,下列有关说法正确的是( )

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| A.合成此高聚物的单体的化学式为C11H10O2 |
| B.1 mol该物质可消耗4molH2 |
| C.该物质可稳定存在于碱性溶液中 |
| D.该物质可经过加聚反应制得 |
光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料,某一光刻胶的主要成分如图所示,下列有关说法正确的是( )

A.合成此高聚物的单体的化学式为C11H10O2
B.1 mol该物质可消耗4molH2
C.该物质可稳定存在于碱性溶液中
D.该物质可经过加聚反应制得
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A.合成此高聚物的单体的化学式为C11H10O2
B.1 mol该物质可消耗4molH2
C.该物质可稳定存在于碱性溶液中
D.该物质可经过加聚反应制得
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光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料.某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B.

(1)请指出A中含有的官能团名称
(2)A经光照固化转变为B,发生了
(3)写出A与NaOH溶液反应的化学方程式
.
(4)写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式
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(1)请指出A中含有的官能团名称
酯基、碳碳双键
酯基、碳碳双键
(填两种).(2)A经光照固化转变为B,发生了
加成
加成
反应(填反应类型).(3)写出A与NaOH溶液反应的化学方程式
(4)写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式
C18H16O4
C18H16O4
.
光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料。某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B。
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(1)请指出A中含有的官能团_________(填两种)。
(2)A经光照固化转变为B,发生了_________反应(填反应类型)。
(3)写出A与NaOH溶液反应的化学方程式________________________。
(4)写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式____________。
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光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料。某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B。
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(1)请指出A中含有的官能团(填两种)。
(2)A经光照固化转变为B,发生了_______________反应(填反应类型)。
(3)写出A与NaOH溶液反应的化学方程式____________________________________。
(4)写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式_______________________。
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22.光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料。某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B。
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⑴请写出A中含有的官能团_______________(填两种)。
⑵A经光照固化转变为B,发生了___________反应(填反应类型)。
⑶写出A与NaOH溶液反应的化学方程式______________________________。
⑷写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式_______________。
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