下列叙述中正确的是（    ）

A．纯碱从物质的分类看不属于碱             B．化合反应都属于氧化还原反应

C．单质只能用置换反应制取                 D．含氧元素的化合物称为氧化物

下列叙述中正确的是（    ）

A．纯碱从物质的分类看不属于碱            B．化合反应都属于氧化还原反应

C．单质只能用置换反应制取                D．含氧元素的化合物称为氧化物

下列叙述中正确的是（   ）

卤素单质的性质活泼，卤素的化合物应用广泛，运用化学反应原理研究卤族元素的有关性质具有重要意义。

（1）下列关于氯水的叙述正确的是_______（填写序号）。

A．氯水中存在两种电离平衡????????????????????

B．向氯水中通入SO2，其漂白性增强

C．向氯水中通入氯气，c( H＋)/c(ClO－)减小???????

D．加水稀释氯水，溶液中的所有离子浓度均减小

E．加水稀释氯水，水的电离平衡向正反应方向移动

F．向氯水中加少量固体NaOH，可能有c(Na＋)=c(Cl－ )+c(ClO－)

（2）工业上通过氯碱工业生产氯气，其反应的离子方程式为______。

（3）常温下，已知25℃时有关弱酸的电离平衡常数：

写出84消毒液（主要成分为NaClO）露置在空气中发生反应的有关化学方程式________。若将84消毒液与洁厕剂（含有浓盐酸）混合使用可能会导致中毒，请用离子方程式解释有关原因___________。

（4）碘钨灯具有比白炽灯寿命长且环保节能的；特点。一定温度下，灯泡内封存的少量碘与使用过程中沉积在管壁上的钨可以发生反应： 。为模拟上述反应，准确称取0. 508g碘、0.736g金属钨置于50. 0mL的密闭容器中，加热使其反应。如图是 WI2(g)的物质的量随时间变化关系图象，其中曲线I（0～t2时间段）的反应温度为T1，曲线II(从t2开始)的反应温度为T2，且T2>T1。则

①该反应的△H_______0（填“>。、=或“<”）

②从反应开始到t1时间内的平均反应速率v(I2)=_________。

③下列说法中不正确的是_________（填序号），

A．利用该反应原理可以提纯钨

B．该反应的平衡常数表达式是K=

C．灯丝附近温度越高，灯丝附近区域WI2越易变为W而重新沉积到灯丝上

（5）25℃时，向5mL含有KCI和KI浓度均为0.1mol/L的混合液中，滴加6mL0．1mol/L的AgNO3溶液，先生成的沉淀是_________，溶液中离子浓度由大到小的顺序是_______ [不考虑H＋和OH－。25℃时]。

卤素单质的性质活泼，卤素的化合物应用广泛，运用化学反应原理研究卤族元素的有关性质具有重要意义。
（1）下列关于氯水的叙述正确的是_______（填写序号）。
A．氯水中存在两种电离平衡                    
B．向氯水中通入SO₂，其漂白性增强
C．向氯水中通入氯气，c( H^＋)/c(ClO^－)减小       
D．加水稀释氯水，溶液中的所有离子浓度均减小
E．加水稀释氯水，水的电离平衡向正反应方向移动
F．向氯水中加少量固体NaOH，可能有c(Na^＋)=c(Cl^－ )+c(ClO^－)
（2）工业上通过氯碱工业生产氯气，其反应的离子方程式为______。
（3）常温下，已知25℃时有关弱酸的电离平衡常数：

写出84消毒液（主要成分为NaClO）露置在空气中发生反应的有关化学方程式________。若将84消毒液与洁厕剂（含有浓盐酸）混合使用可能会导致中毒，请用离子方程式解释有关原因___________。
（4）碘钨灯具有比白炽灯寿命长且环保节能的；特点。一定温度下，灯泡内封存的少量碘与使用过程中沉积在管壁上的钨可以发生反应： 。为模拟上述反应，准确称取0. 508g碘、0.736g金属钨置于50. 0mL的密闭容器中，加热使其反应。如图是 WI₂(g)的物质的量随时间变化关系图象，其中曲线I（0～t₂时间段）的反应温度为T₁，曲线II(从t₂开始)的反应温度为T₂，且T₂>T₁。则

①该反应的△H_______0（填“>。、=或“<”）
②从反应开始到t₁时间内的平均反应速率v(I₂)=_________。
③下列说法中不正确的是_________（填序号），
A．利用该反应原理可以提纯钨
B．该反应的平衡常数表达式是K=
C．灯丝附近温度越高，灯丝附近区域WI₂越易变为W而重新沉积到灯丝上
（5）25℃时，向5mL含有KCI和KI浓度均为0.1mol/L的混合液中，滴加6mL0．1mol/L的AgNO₃溶液，先生成的沉淀是_________，溶液中离子浓度由大到小的顺序是_______ [不考虑H^＋和OH^－。25℃时]。

清洗和制绒是硅晶片制作的重要步骤之一，硅片化学清洗的主要目的是除去硅片表面杂质（如某些有机物，无机盐，金属、Si、SiO₂粉尘等）。常用的化学清洗剂有高纯水、有机溶剂、双氧水、浓酸、强碱等。其中去除硅的氧化物，通常用一定浓度的HF溶液，室温条件下将硅片浸泡1至数分钟。制绒是在硅片表面形成金字塔形的绒面，增加硅对太阳光的吸收。单晶制绒通常用NaOH，Na₂SiO₃等混合溶液在75～90℃反应25～35 min，效果良好。

回答下列问题

（1）能否用玻璃试剂瓶来盛HF溶液，为什么?用化学方程式加以解释                           ；

（2）写出晶片制绒反应的离子方程式                                    ，对单晶制绒1990年化学家Seidel提出了一种的电化学模型，他指出Si与NaOH溶液的反应，首先是Si与OH^一反应，生成SiO₄^4一，然后SiO₄^4一迅速水解生成H₄SiO₄。基于此原理分析反应中氧化剂为                     。

（3）本校化学兴趣小组同学，为验证Seidel的理论是否正确，完成以下实验：

结论：从实验上说明碱性水溶液条件下，H₂O可作                 剂；NaOH作               剂，降低反应             。高温无水环境下，NaOH作               剂。

（4）在太阳能电池表面沉积深蓝色减反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷（SiH₄）与氨气（NH₃）在等离子体中反应。硅烷是一种无色、有毒气体，常温下与空气和水剧烈反应。下列关于硅烷、氮化硅的叙述不正确的是                。

A．在使用硅烷时要注意隔离空气和水，SiH₄能与水发生氧化还原反应生成H₂；

B．硅烷与氨气反应的化学方程式为：3SiH₄+4NH₃＝Si₃N₄+12H₂↑，反应中NH₃作氧化剂；

C．它们具有卓越的抗氧化、绝缘性能和隔绝性能，化学稳定性很好，不与任何酸、碱反应；

D．氮化硅晶体中只存在共价键，Si₃N₄是优良的新型无机非金属材料。