题目内容
| 在室温下，下列物质不与晶体硅反应的是 |
A．F2 B．HF C．KOH溶液 D．Cl2 |
试题答案
D
相关题目
晶体硅是一种重要的非金属材料，在现代电子工业中具有非常重要的应用．工业上制备高纯硅的主要步骤如下：
（1）下列有关硅及化合物的说法，正确的是______．
A．石英的主要成分是SiO2
B．太阳能电池使用单质硅做材料，其应用有利于环保、节能
C．粗硅制备高纯硅的过程不涉及氧化还原反应
D．玻璃、水泥、陶瓷都属于硅酸盐产品
（2）SiCl4在室温下为无色液体，易挥发，粗硅与氯气反应得到的粗SiCl4中含有大量固体杂质，通过“操作A”提纯得到纯SiCl4，操作A的名称是______．
（3）整个制备过程必须严格控制无水无氧．H2还原SiCl4过程中发生的反应是：______在该过程中若有O2混入，可能引起的后果是______．
查看习题详情和答案>>
晶体硅是一种重要的非金属材料，在现代电子工业中具有非常重要的应用．工业上制备高纯硅的主要步骤如下：
（1）下列有关硅及化合物的说法，正确的是______．
A．石英的主要成分是SiO2
B．太阳能电池使用单质硅做材料，其应用有利于环保、节能
C．粗硅制备高纯硅的过程不涉及氧化还原反应
D．玻璃、水泥、陶瓷都属于硅酸盐产品
（2）SiCl4在室温下为无色液体，易挥发，粗硅与氯气反应得到的粗SiCl4中含有大量固体杂质，通过“操作A”提纯得到纯SiCl4，操作A的名称是______．
（3）整个制备过程必须严格控制无水无氧．H2还原SiCl4过程中发生的反应是：______在该过程中若有O2混入，可能引起的后果是______．
查看习题详情和答案>>
（1）下列有关硅及化合物的说法，正确的是______．
A．石英的主要成分是SiO2
B．太阳能电池使用单质硅做材料，其应用有利于环保、节能
C．粗硅制备高纯硅的过程不涉及氧化还原反应
D．玻璃、水泥、陶瓷都属于硅酸盐产品
（2）SiCl4在室温下为无色液体，易挥发，粗硅与氯气反应得到的粗SiCl4中含有大量固体杂质，通过“操作A”提纯得到纯SiCl4，操作A的名称是______．
（3）整个制备过程必须严格控制无水无氧．H2还原SiCl4过程中发生的反应是：______在该过程中若有O2混入，可能引起的后果是______．
晶体硅是一种重要的非金属材料，在现代电子工业中具有非常重要的应用．工业上制备高纯硅的主要步骤如下：
（1）下列有关硅及化合物的说法，正确的是______．
A．石英的主要成分是SiO2
B．太阳能电池使用单质硅做材料，其应用有利于环保、节能
C．粗硅制备高纯硅的过程不涉及氧化还原反应
D．玻璃、水泥、陶瓷都属于硅酸盐产品
（2）SiCl4在室温下为无色液体，易挥发，粗硅与氯气反应得到的粗SiCl4中含有大量固体杂质，通过“操作A”提纯得到纯SiCl4，操作A的名称是______．
（3）整个制备过程必须严格控制无水无氧．H2还原SiCl4过程中发生的反应是：______在该过程中若有O2混入，可能引起的后果是______．
查看习题详情和答案>>
（1）下列有关硅及化合物的说法，正确的是______．
A．石英的主要成分是SiO2
B．太阳能电池使用单质硅做材料，其应用有利于环保、节能
C．粗硅制备高纯硅的过程不涉及氧化还原反应
D．玻璃、水泥、陶瓷都属于硅酸盐产品
（2）SiCl4在室温下为无色液体，易挥发，粗硅与氯气反应得到的粗SiCl4中含有大量固体杂质，通过“操作A”提纯得到纯SiCl4，操作A的名称是______．
（3）整个制备过程必须严格控制无水无氧．H2还原SiCl4过程中发生的反应是：______在该过程中若有O2混入，可能引起的后果是______．
晶体硅是一种重要的非金属材料，在现代电子工业中具有非常重要的应用。工业上制备高纯硅的主要步骤如下
（1）下列有关硅及化合物的说法，正确的是__________。
A．石英的主要成分是SiO2
B．太阳能电池使用单质硅做材料，其应用有利于环保、节能
C．粗硅制备高纯硅的过程不涉及氧化还原反应
D．玻璃、水泥、陶瓷都属于硅酸盐产品
（2）SiCl4在室温下为无色液体，易挥发，粗硅与氯气反应得到的粗SiCl4中含有大量固体杂质，通过操作A提纯得到纯SiCl4，操作A的名称是___________。
（3）整个制备过程必须严格控制无水无氧。H2还原SiCl4过程中发生的反应是：______________________在该过程中若有O2混入，可能引起的后果是___________________________。
查看习题详情和答案>>
A．石英的主要成分是SiO2
B．太阳能电池使用单质硅做材料，其应用有利于环保、节能
C．粗硅制备高纯硅的过程不涉及氧化还原反应
D．玻璃、水泥、陶瓷都属于硅酸盐产品
（2）SiCl4在室温下为无色液体，易挥发，粗硅与氯气反应得到的粗SiCl4中含有大量固体杂质，通过操作A提纯得到纯SiCl4，操作A的名称是___________。
（3）整个制备过程必须严格控制无水无氧。H2还原SiCl4过程中发生的反应是：______________________在该过程中若有O2混入，可能引起的后果是___________________________。