题目内容
| 根据相关的化学原理，下列判断正确的是 |
A．由于水中存在氢键，所以稳定性：H2O> H2S B．由于二氧化硅的相对分子质量比二氧化碳的大，所以沸点：SiO2>CO2 C．若A2+2D- = 2A- + D2，则还原性：A2>D2 D．若R2-和M+的电子层结构相同，则离子半径：R2- >M+ |
试题答案
D
相关题目
根据相关的化学原理，下列判断正确的是
A．由于水中存在氢键，所以稳定性：H2O＞H2S
B．由于二氧化硅的相对分子质量比二氧化碳的大，所以沸点：SiO2＞CO2
C．若A2 + 2D— == 2A— + D2，则氧化性D2＞A2
D．若R2—和M+的电子层结构相同，则离子半径R2—＞M+
查看习题详情和答案>>根据相关的化学原理，下列判断正确的是
A．由于水中存在氢键，所以稳定性：H2O＞H2S
B．由于二氧化硅的相对分子质量比二氧化碳的大，所以沸点：SiO2＞CO2
C．若A2 + 2D— ="=" 2A— + D2，则氧化性D2＞A2
D．若R2—和M+的电子层结构相同，则离子半径R2—＞M+
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根据相关的化学原理，下列判断正确的是( )
A．由于水中存在氢键，所以稳定性：H2O＞H2S
B．由于二氧化硅的相对分子质量比二氧化碳的大，所以沸点：SiO2＞CO2
C．若A2＋2D－＝2A－＋D2，则氧化性：D2＞A2
D．若R2－和M＋的电子层结构相同，则离子半径：R2－＞M＋
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根据相关的化学原理，下列判断正确的是( )
A．由于水中存在氢键，所以稳定性：H2O＞H2S
B．由于二氧化硅的相对分子质量比二氧化碳的大，所以沸点：SiO2＞CO2
C．若A2＋2D－＝2A－＋D2，则氧化性：D2＞A2
D．若R2－和M＋的电子层结构相同，则离子半径：R2－＞M＋
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根据相关的化学原理，下列判断正确的是
| A．由于水中存在氢键，所以稳定性：H2O＞H2S |
| B．由于二氧化硅的相对分子质量比二氧化碳的大，所以沸点：SiO2＞CO2 |
| C．若A2 + 2D— ="=" 2A— + D2，则氧化性D2＞A2 |
| D．若R2—和M+的电子层结构相同，则离子半径R2—＞M+ |
根据相关的化学原理，下列判断正确的是
[ ]
A．由于氟化氢分子间存在氢键，所以稳定性：HF＞HCl
B．由于二氧化硅的相对分子质量比二氧化碳的大，所以沸点：SiO2＞CO2
C．若A2+2D-＝2A-+D2，则氧化性：D2＞A2
D．若R2-和M+的电子层结构相同，则离子半径：R2-＞M+
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B．由于二氧化硅的相对分子质量比二氧化碳的大，所以沸点：SiO2＞CO2
C．若A2+2D-＝2A-+D2，则氧化性：D2＞A2
D．若R2-和M+的电子层结构相同，则离子半径：R2-＞M+
根据相关的化学原理，下列判断正确的是
[ ]
A．由于水中存在氢键，所以稳定性：H2O>H2S
B．由于二氧化硅的相对分子质量比二氧化碳的大，所以沸点：SiO2>CO2
C．若A2+ 2D-= 2A-+ D2，则氧化性D2>A2
D．若R2-和M+的电子层结构相同，则离子半径R2->M+
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B．由于二氧化硅的相对分子质量比二氧化碳的大，所以沸点：SiO2>CO2
C．若A2+ 2D-= 2A-+ D2，则氧化性D2>A2
D．若R2-和M+的电子层结构相同，则离子半径R2->M+
根据相关的化学原理，下列判断正确的是
[ ]
A．由于水中存在氢键，所以稳定性：H2O> H2S
B．由于二氧化硅的相对分子质量比二氧化碳的大，所以沸点：SiO2>CO2
C．若A2+2D- = 2A- + D2，则还原性：A2>D2
D．若R2-和M+的电子层结构相同，则离子半径：R2- >M+
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B．由于二氧化硅的相对分子质量比二氧化碳的大，所以沸点：SiO2>CO2
C．若A2+2D- = 2A- + D2，则还原性：A2>D2
D．若R2-和M+的电子层结构相同，则离子半径：R2- >M+