图中a、b、c为三个物块，M、N为两个轻质弹簧，R为跨过光滑定滑轮的轻绳，它们连接如图并处于平衡状态。
向右拉木块2，当两木块一起匀速运动时两木块之间的距离是
B. 
D. 
如图所示，某质点沿半径为r的半圆弧由a点运动到b点，则它通过的位移和路程分别是20．单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硫、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450-500°C)，四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
相关信息如下：
a.四氯化硅遇水极易水解；
b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；
c.有关物质的物理常数见下表：
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物质 |
SiCl4 |
BCl3 |
AlCl3 |
FeCl3 |
PCl5 |
|
沸点/℃ |
57.7 |
12.8 |
- |
|
- |
|
熔点/℃ |
-70.0 |
-107.2 |
- |
- |
- |
|
升华温度/℃ |
- |
- |
180 |
300 |
163 |
请回答下列问题：
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式 。
(2)装置A中g管的作用是 ；装置C中的试剂是 ；装置E中的h瓶需要冷却理由是 。
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是 (填写元素符号)。
(4)为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，是铁元素还原成Fe2+ ，再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式是：
①滴定前是否要滴加指示剂？ (填“是”或“否”)，请说明理由 。
②某同学称取5.000g残留物，预处理后在容量瓶中配制成100ml溶液，移取25.00ml，试样溶液，用1.000×10-2mol· L-1KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00ml,则残留物中铁元素的质量分数是 。
18.(12分)某100mL溶液中仅含下表离子中的5种离子(不考虑水的电离及离子的水解)，且各离子的物质的量均为0.1mol。
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阴离子 |
 |
|
阳离子 |
 |
①若向原溶液中加入KSCN溶液，无明显变化。
②若向原溶液中加入过量的盐酸，有气体生成，溶液中阴离子种类不变。
③若向原溶液中加入
溶液，有白色沉淀生成。
试回答下列问题：
(1)原溶液中所含阳离子是(写离子符号，后同) ，阴离子是 。
(2)若向原溶液中先加入少量盐酸，再滴入KSCN溶液，实验中所发生反应的离子方程式是 、 。
(3)若向原溶液中加入足量
溶液，充分反应后静置一段时间，过滤、洗涤、灼烧，最终所得固体的质量是
。
(4)向原溶液中加入足量盐酸后，用排水法收集所产生的气体并使气体恰好充满容器，仍将容器倒置于水槽中，再向容器中通入
mL
(气体体积均指标准状况)，能使溶液充满该容器。
、
、
、
、
、
和一种未知物质X。
在反应中得到1mol电子生成X，则X的化学式为
。
b．氧化性：
d．还原性：
