摘要：氯碱工业的主要原料:饱和食盐水.但由于粗盐水中含有泥沙等杂质.精制食盐水时经常加入等.使杂质成为沉淀.过滤除去.然后加入调节盐水的pH.

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氯碱工业中，通过电解饱和食盐水获得重要的化工原料：氯气、氢气和氢氧化钠．其中氯气用途十分广泛，除用于净水、环境消毒外，还用于生产盐酸、硅、聚氯乙烯、氯苯等．
（1）工业上可用氯气和石灰乳为原料制造漂白粉，漂白粉为

（填“纯净物”或“混合物”），制备漂白粉的化学方程式为

Ca（OH）₂+2Cl₂=CaCl₂+Ca（ClO）₂+2H₂O

Ca（OH）₂+2Cl₂=CaCl₂+Ca（ClO）₂+2H₂O

．
（2）工业上生产半导体材料硅的流程如图所示：

①石英砂的主要成分是二氧化硅，在制备粗硅时，焦炭的作用是

．（填“氧化剂”或“还原剂”）
②粗硅与氯气反应后得到沸点较低的液态四氯化硅，其中常混有一些高沸点、难挥发性杂质，必须进行分离提纯．其提纯方法为

．（填字母）
A．蒸馏 B．过滤 C．萃取 D．蒸发
③四氯化硅与氢气在高温条件下反应得到高纯硅和氯化氢气体，写出该反应的化学方程式：

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氯碱工业中，通过电解饱和食盐水获得重要的化工原料，其产物中的氯气用途十分广泛，除用于净水、环境消毒外，还用于生产盐酸、聚氯乙烯、氯苯等．
（1电解食盐水的离子方程式为

．氯气用于生产半导体材料硅的流程如下：

①石英砂的主要成分的化学式为

，在制备粗硅时，焦炭的作用是

．
②粗硅与氯气反应后得到的液态四氯化硅中常混有一些杂质，必须进行分离提纯．其提纯方法为

．
③由四氯化硅得到高纯硅的化学方程式为：

．
高温
（2）用于制造塑料薄膜、人造革、塑料管材和板材的聚氯乙烯（PVC塑料）就是以氯气和乙烯为主要原料通过

三步主要反应生产的，这三步的化学方程式分别为：

、CH₂Cl=CH₂Cl

CH₂=CHCl+HCl、

．
（3）上述两种生产过程可得到同一种副产品，该副产品是

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氯碱工业中，通过电解饱和食盐水获得重要的化工原料：氯气、氢气和氢氧化钠．其中氯气用途十分广泛，除用于净水、环境消毒外，还用于生产盐酸、硅、聚氯乙烯、氯苯等．
（1）工业上可用氯气和石灰乳为原料制造漂白粉，漂白粉为（填“纯净物”或“混合物”），制备漂白粉的化学方程式为．
（2）工业上生产半导体材料硅的流程如图所示：

①石英砂的主要成分是二氧化硅，在制备粗硅时，焦炭的作用是．（填“氧化剂”或“还原剂”）
②粗硅与氯气反应后得到沸点较低的液态四氯化硅，其中常混有一些高沸点、难挥发性杂质，必须进行分离提纯．其提纯方法为．（填字母）
A．蒸馏　　　　　B．过滤　　　　 C．萃取　　　　D．蒸发
③四氯化硅与氢气在高温条件下反应得到高纯硅和氯化氢气体，写出该反应的化学方程式：__．

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氯碱工业中，通过电解饱和食盐水获得重要的化工原料：氯气、氢气和氢氧化钠．其中氯气用途十分广泛，除用于净水、环境消毒外，还用于生产盐酸、硅、聚氯乙烯、氯苯等．
（1）工业上可用氯气和石灰乳为原料制造漂白粉，漂白粉为（填“纯净物”或“混合物”），制备漂白粉的化学方程式为．
（2）工业上生产半导体材料硅的流程如图所示：

①石英砂的主要成分是二氧化硅，在制备粗硅时，焦炭的作用是    ．（填“氧化剂”或“还原剂”）
②粗硅与氯气反应后得到沸点较低的液态四氯化硅，其中常混有一些高沸点、难挥发性杂质，必须进行分离提纯．其提纯方法为    ．（填字母）
A．蒸馏          B．过滤         C．萃取        D．蒸发
③四氯化硅与氢气在高温条件下反应得到高纯硅和氯化氢气体，写出该反应的化学方程式：    ．查看习题详情和答案>>

氯碱工业中，通过电解饱和食盐水获得重要的化工原料．其中氯气用途十分广泛，除用于净水、环境消毒外，还用于生产盐酸、聚氯乙烯、氯苯等．

(1)该反应的化学方程式为________．氯气用于生产半导体材料硅的流程如下：

①石英砂的主要成分是________，在制备粗硅时，焦炭的作用是________．

②粗硅与氯气反应后得到的液态四氯化硅中常混有一些杂质，必须进行分离提纯．其提纯方法为________．

③由四氯化硅得到高纯硅的化学方程式是________．

(2)用于制造塑料薄膜、人造革、塑料管材和板材的聚氯乙烯(PVC塑料)就是以氯气和乙烯为主要原料通过________、裂解和________三步主要反应生产的．生产聚氯乙烯的有关反应的化学方程式为________．

(3)上述两种生产过程可得到同一种副产品，该副产品是________．

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