单质硅是信息产业中重要的基础材料．通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硼、磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度为450℃～500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅．以下是实验室制备四氯化硅的装置图：

相关信息如下：
①四氯化硅遇水极易水解
②硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物
③有关物质的物理常数见下表：

物质	SiCl4	BCl3	AlCl3	FeCl3	PCl5
沸点/℃	57.7	12.8	-	315	-
熔点/℃	-70.0	-107.2	-	-	-
升华温 度/℃	-	-	180	300	162

请回答下列问题：
（1）装置A中g管的作用是；装置C中的试剂是．
（2）甲方案：f接装置Ⅰ；乙方案：f接装置Ⅱ．但是装置Ⅰ、Ⅱ都有不足之处，请你评价后填写下表．

方案	优点	缺点
甲	①收集产品的导管粗，不会堵塞导管 ②冷凝产品，减少产品损失 ①收集产品的导管粗，不会堵塞导管 ②冷凝产品，减少产品损失	①空气中的水蒸气进入产品收集装置，使四氯化硅水解 ②尾气没有处理，污染环境 ①空气中的水蒸气进入产品收集装置，使四氯化硅水解 ②尾气没有处理，污染环境
乙	①有尾气处理装置，注重环保 ②避免空气中的水蒸气进入装置 ①有尾气处理装置，注重环保 ②避免空气中的水蒸气进入装置	①产品易堵塞导管 ②没有冷凝装置，产品易损失 ①产品易堵塞导管 ②没有冷凝装置，产品易损失

（3）在上述（2）的评价基础上，请你设计一个合理方案并用文字表达：．
（4）SiCl₄与H₂反应的化学方程式为．

单质A、B、C分别为固体、黄绿色气体和无色气体，在一定条件下它们的反应如图所示．

（1）B的化学式为，C在充满B的集气瓶中燃烧时的现象是．
（2）A与B反应的化学方程式为．溶液F与A反应的离子方程式为．
（3）将B通入NaOH溶液中反应的离子方程式为．
（4）F、G、H三种溶液中所含的相同阴离子是，检验该阴离子可用的试剂是．

单质X和Y相互反应生成

+2

X

-2

Y

，现有下列叙述：①X被氧化；②X是氧化剂；③X具有氧化性；④Y^2-是还原产物；⑤Y^2-具有还原性；⑥X²⁺具有氧化性；⑦Y的氧化性比X²⁺的氧化性强．其中正确的是（　　）

单质X与浓H₂SO₄共热，反应中X与H₂SO₄的物质的量之比为1：2，则X元素在生成物中的化合价可能为（　　）
①+1　②+2　③+3　④+4．

单质X和Y相互反应生成X²⁺Y^2-．下列叙述中不正确的是（　　）