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“卤块”的主要成分为MgCl2(含Fe2+、Fe3+、Mn2+等杂质离子)，若以它为原料，按如下工艺流程图，即可制得“轻质氧化镁”．如果要求产品尽量不含杂质离子，而且成本较低，流程中所用试剂或pH值控制可参考下列附表确定．
Ω注：Fe2+氢氧化物呈絮状，不易从溶液中除去，所以常将它氧化成为Fe3+，生成Fe(OH)3沉淀而去除之．
请填写以下空白：
(1)、在步骤②加入试剂X，最佳选择应是________，其作用是________．
(2)、在步骤③加入的试剂Y应是________，之所以要控制pH＝9.8，其目的是________．
(3)、在步骤⑤时发生的化学反应方程式是：________．
“卤块”的主要成分为MgCl2(含Fe2+、Fe3+、Mn2+等杂质离子)，若以它为原料，按如下工艺流程图，即可制得轻质氧化镁．如果要求产品尽量不含杂质离子，而且成本较低．流程中所用试剂或pH控制可参阅下表确定．
注：
Fe2+氢氧化物呈絮状，不易从溶液除去，所以常将它氧化成为Fe3+生成Fe(OH)3沉淀而除去．
请填写以下空白：
(1)在步骤②加入的试剂X，最佳选择应________，其作用是________．
(2)在步骤③加入的试剂Y，应是________之所以要控制pH＝9.8，其目的是________．
(3)在步骤⑤时发生的化学方程式是________．
查看习题详情和答案>>“卤块”的主要成分为MgCl2(含Fe2+、Fe3+、Mn2+等杂质离子)，若以它为原料，按图工艺流程图操作，即可制得“轻质氧化镁”．如果要求产品尽量不含杂质离子，而且成本较低．流程中所用试剂或pH控制可参考下列附表确定．
注：Fe2+氢氧化物呈絮状，不易从溶液中除去．所以常将它氧化为Fe3+，生成Fe(OH)3沉淀而去除之．
请填写以下空白：
(1)在步骤②加入的试剂x，最佳选择应是________，其作用是________．
(2)在步骤③加入的试剂y应是________，之所以要控制pH＝9.8，其目的是________．
(3)在步骤⑤时发生的化学反应方程式是：________．
“卤块”的主要成分为MgCl2(含Fe2+、Fe3+、Mn2+等杂质离子)，若以它为原料，按如下工艺流程图，即可制得“轻质氧化镁”．如果要求产品尽量不含杂质离子，而且成本较低，流程中所用试剂或pH值控制可参考下列附表确定．
请填写以下空白：
(1)在步骤②加入的试剂X，最佳选择应是________，其作用是________．
(2)步骤③加入的试剂Y应是________；之所以要控制pH＝9.8，其目的是________．
(3)在步骤⑤时发生的化学反应方程式是________．
“卤块”的主要成分为MgCl2（含Fe2+、Fe3+、Mn2+等杂质离子），若以它为原料，按如下工艺流程图，即可制得“轻质氧化镁”。如果要求产品尽量不含杂质离子，而且成本较低，流程中所用试剂或PH值控制可参考下列附表确定
轻质氧化镁生产工艺流程图
表1 生成氢氧化物沉淀的PH值
| 物质 | 开始沉淀 | 沉淀完全 |
| Fe（OH）3 Fe（OH）2 Mn（OH）2 Mg（OH）2 | 2．7 7．6 8．3 9．6 | 3．7 9．6 9．8 11．1 |
*）注：Fe2+氢氧化物呈絮状，不易从溶液中除去，所以常常将它氧化成为Fe3+，生成
Fe（OH）3沉淀而去除之。
表2 化学试剂价值表
| 试剂 | 价格（元/t） |
| 漂液（含NaClO25.2%） H2O2（30%） NaOH（固98%） Na2CO3（固99.5%） 卤块（MgCl2，30%） | 450 2400 2100 600 310 |
请填写以下空白：
（1）在步骤②加入的试剂X，最佳选择应是 ，其作用是 。
（2）步骤③加入的试剂Y应是 ；之所以要控制pH=9.8，其目的是 。
（3）在步骤⑤时发生的化学反应方程式是：
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