（2009?浙江模拟）用0.1mol．L^-1NaOH溶液滴定0.1mol．L^-1盐酸，如达到滴定的终点时不慎多加了1滴NaOH溶液（1滴溶液的体积约为0.05mL〕．继续加水至50mL，所得溶液的pH是（　　）

（2009?浙江模拟）某化工厂生产皓矾（ZnSO₄?7H₂O），结晶前的饱和溶液（呈酸性）中含有少量Cu²⁺、Fe³⁺、Fe²⁺等杂质．已知0.01mol/L的Fe³⁺开始沉淀到完全沉淀的pH范围是2.7～3.7；ZnSO₄饱和溶液（0.34mol/L）中Zn²⁺开始沉淀到完全沉淀的pH范围是5.7～8.0；当pH＜5.7时，Na₂CO₃、ZnCO₃发生酸解生成CO₂．该厂除杂及生产的工艺流程如图所示：

（1）加入的试剂②最好是（填名称），其主要作用是．
（2）为了调整溶液的pH，加入试剂③，供选用的试剂有NaOH、Na₂CO₃、ZnCO₃、NH₃?H₂O、Ca（OH）₂等，应当选用，理由是．
（3）从溶液中获得皓矾的操作依次是．

（2009?浙江）已知：25℃时，K_sp[Mg（OH）₂]=5.61×10^-12，K_sp[MgF₂]=7.42×10^-11．下列说法正确的是（　　）

（2009?浙江）单晶硅是信息产业中重要的基础材料．通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硼、磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450～500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅．以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图．

相关信息如下：①四氯化硅遇水极易水解；
②硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；
③有关物质的物理常数见下表：

物质	SiCl4	BCl3	AlCl3	FeCl3	PCl5
沸点/℃	57.7	12.8	-	315	-
熔点/℃	-70.0	-107.2	-	-	-
升华温度/℃	-	-	180	300	162

请回答下列问题：
（1）写出装置A中发生反应的离子方程式．
（2）装置A中g管的作用是；装置C中的试剂是；
装置E中的h瓶需要冷却的理由是．
（3）装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是（填写元素符号）．
（4）为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe²⁺，再用KMnO₄标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式是：5Fe²⁺+MnO₄^-+8H⁺=5Fe³⁺+Mn²⁺+4H₂O
①滴定前是否要滴加指示剂？（填“是”或“否”），请说明理由．
②某同学称取5.000g残留物后，经预处理后在容量瓶中配制成100mL溶液，移取25.00mL试样溶液，用1.000×10^-2 mol/LKMnO₄标准溶液滴定．达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00mL，则残留物中铁元素的质量分数是．