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(1)运用树状分类法将这些物质(用化学式表示)进行分类.(要求分至最基本的类型,参看下图例示,将上述物质分类写在下图中)
(2)常温下,上述物质两两混合,能够制取的气体有
(1)S单质的常见形式是S8,其环状结构如图1所示,S原子采用的轨道杂化方式是
(2)原子的第一电离能是指气态电中性基态原子失去一个电子转化为气态基态正离子所需要的最低能量,O、S、Se原子的第一电离能由大到小的顺序为
(3)Se的原子序数为
(4)H2Se的酸性比 H2S
| SO | 2- 3 |
(5)H2SeO3 的K1和K2分别是2.7×10-3和2.5×10-8,H2SeO4的第一步几乎完全电离,K2是1.2×10-2,请根据结构与性质的关系解释:
①H2SeO3和H2SeO4的第一步电离程度大于第二步电离的原因:
②H2SeO4比H2SeO3酸性强的原因:
(6)ZnS在荧光体、光导体材料、涂料、颜料等行业中应用广泛.立方ZnS晶体结构如图2所示,其晶胞边长为540.0pm,密度为
| ||
| (540.0×10-10cm)3 |
| ||
| (540.0×10-10cm)3 |
| 270.0 | ||
|
135.0×
| ||
sin
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| 3 |
| 270.0 | ||
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135.0×
| ||
sin
|
| 3 |
(10分)电镀废水一种特殊处理工艺如下:![]()
图中DTCR能与Ni2+、Zn2+、Cu2+、Cr3+等各种重金属离子迅速反应,生成不溶水的螯合盐,再加入少量絮凝剂下,形成絮状沉淀,从而达到捕集去除重金属的目的。
试回答下列问题:
(1)步骤②ClO2可将CN-直接氧化成两种无毒气体,该反应的离子方程式为 ▲ 。
(2)若含氰废水流量为0.8 m3/h,含氰(CN-)浓度为300 mg/L,为确保安全,实际投放ClO2为理论值的1.3倍,则完成氧化每小时共需投入ClO2质量为 ▲ kg。
(3)步骤③中氧化剂与还原剂的物质的量之比为 ▲ 。
(4)PAM为丙烯酰胺(CH2=CHCONH2)的聚合物,该聚合物的结构简式为 ▲ 。
(5)本工艺中将废水分类收集,分而治之的优点是 ▲ 。
(10分)电镀废水一种特殊处理工艺如下:
图中DTCR能与Ni2+、Zn2+、Cu2+、Cr3+等各种重金属离子迅速反应,生成不溶水的螯合盐,再加入少量絮凝剂下,形成絮状沉淀,从而达到捕集去除重金属的目的。
试回答下列问题:
(1)步骤②ClO2可将CN-直接氧化成两种无毒气体,该反应的离子方程式为 ▲ 。
(2)若含氰废水流量为0.8 m3/h,含氰(CN-)浓度为300 mg/L,为确保安全,实际投放ClO2为理论值的1.3倍,则完成氧化每小时共需投入ClO2质量为 ▲ kg。
(3)步骤③中氧化剂与还原剂的物质的量之比为 ▲ 。
(4)PAM为丙烯酰胺(CH2=CHCONH2)的聚合物,该聚合物的结构简式为 ▲ 。
(5)本工艺中将废水分类收集,分而治之的优点是 ▲ 。
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(10分)电镀废水一种特殊处理工艺如下:
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图中DTCR能与Ni2+、Zn2+、Cu2+、Cr3+等各种重金属离子迅速反应,生成不溶水的螯合盐,再加入少量絮凝剂下,形成絮状沉淀,从而达到捕集去除重金属的目的。
试回答下列问题:
(1)步骤②ClO2可将CN-直接氧化成两种无毒气体,该反应的离子方程式为 ▲ 。
(2)若含氰废水流量为0.8 m3/h,含氰(CN-)浓度为300 mg/L,为确保安全,实际投放ClO2为理论值的1.3倍,则完成氧化每小时共需投入ClO2质量为 ▲ kg。
(3)步骤③中氧化剂与还原剂的物质的量之比为 ▲ 。
(4)PAM为丙烯酰胺(CH2=CHCONH2)的聚合物,该聚合物的结构简式为 ▲ 。
(5)本工艺中将废水分类收集,分而治之的优点是 ▲ 。
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