14．硅单质及其化合物应用范围很广.请回答下列问题: (1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅.三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法.生产过程示意图如下: 焦炭高温HCl——青夏教育精英家教网—

摘要：14．硅单质及其化合物应用范围很广.请回答下列问题: (1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅.三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法.生产过程示意图如下: 焦炭高温HCl573 K以上H21 357 K ① 写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式 . ② 整个制备过程必须严格控制无水无氧.SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3.HCl和另一种物质.写出配平的化学反应方程式 , H2还原SiHCl3过程中若混入O2.可能引起的后果是 . (2)下列有关硅材料的说法正确的是 . A．碳化硅化学性质稳定.可用于生产耐高温水泥 B．氮化硅硬度大.熔点高.可用于制作高温陶瓷和轴承 C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料--光导纤维 D．普通玻璃是由纯碱.石灰石和石英砂制成的.其熔点很高 E．盐酸可以与硅反应.故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅 (3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃.取少量硅酸钠溶液于试管中.逐滴加入饱和氯化铵溶液. 振荡.写出实验现象并给予解释: . 解析 (1)①根据原子守恒即质量守恒可以写出SiHCl3与H2反应的化学方程式. ②SiHCl3和H2O剧烈反应生成H2SiO3.HCl和另一种物质.分析它们化合价的变化可知. .而Cl的化合价未发生变化.因此另一种元素即H元素的化合价必定降低.即另一种物质是H2. (2)碳化硅.氮化硅为原子晶体.A.B和C都正确.玻璃是一种玻璃态物质.无固定的熔点.盐酸不能与硅反应.而HCl在573 K以上的温度下可与硅发生反应.因此D.E 都不正确. 答案 (1)①SiHCl3+H2Si+3HCl ②SiHCl3+3H2O===H2SiO3↓+3HCl↑+H2↑ 氧气与氢气混合.可能引起爆炸,氧气可能会氧化SiHCl3 (2)ABC (3)现象:试管中有白色胶状沉淀生成.并且有刺激性气体生成解释:Na2SiO3和NH4Cl均能够水解.二者相互促进.Na2SiO3水解生成 H2SiO3. NH4Cl水解产生NH3

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(8分)在2008年初我国南方遭遇的冰雪灾害中，使用了一种融雪剂，其主要成分的化学式为XY₂，X、Y均为周期表前20号元素，其阳离子和阴离子的电子层结构相同，且1mol XY₂含有54 mol电子。

(1)该融雪剂的化学式是__________；X与氢元素形成的化合物的电子式是__________。

(2)元素D、E原子的最外层电子数是其电子层数的2倍，D与Y相邻，则D的离子结构示意图是__________；D与E能形成一种非极性分子，该分子的结构式为__________；D所在族元素的氢化物中，沸点最低的是__________。

(3)元素W与Y同周期，其单质是原子晶体；元素Z的单质分子Z₂中有3个共价健；W与Z能形成一种新型无机非金属材料，其化学式是__________。

(4)元素R与Y同主族，其氢化物能用于刻蚀玻璃，R₂与NaOH溶液反应的产物之一是OR₂，该反应的离子方程式为

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(1)该融雪剂的化学式是__________；X与氢元素形成的化合物的电子式是__________。

(3)元素W与Y同周期，其单质是原子晶体；元素Z的单质分子Z₂中有3个共价健；W与Z能形成一种新型无机非金属材料，其化学式是__________。

(4)元素R与Y同主族，其氢化物能用于刻蚀玻璃，R₂与NaOH溶液反应的产物之一是OR₂，该反应的离子方程式为

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