摘要:11.Xe与F2作用生成XeF2.XeF4.XeF6.反应的平衡常数分别为: Kp Kp Xe(g) + F2(g) = XeF2(g) 8.80´104 3.60´102 Xe(g) +2 F2(g) = XeF4(g) 1.07´108 1.98´103 Xe(g) +3 F2(g) = XeF6(g) 1.06´108 36.0 (1) 现要求制备压力为1atm的XeF2(XeF4含量小于1%).求在250°C和400°C时.起始物中氙和氟的摩尔比. (2) 欲制备压力为1atm的XeF6(XeF4含量小于1/10).问用单质合成XeF6应选取哪一种温度.250°C还是400°C或者两者差别不大?在选取的温度下与分压1.0atm的XeF6达平衡的氟的分压有多大? (3) 由单质合成XeF4时.应把温度保持在250°C还是400°C?简述理由.
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F2和Xe在一定条件下可生成XeF2、XeF4和XeF6三种氟化氙,它们都是极强的氧化剂,都极易与水发生反应,其中6XeF4![]()
+12H2O === 2XeO3+4Xe↑+24HF+3O3↑,下列推测正确的是
A.XeF2分子中各原子均达到8原子的稳定结构
B.某种氟化氙的晶体结构单元如右图所示,可推测其化学式为XeF6
C.XeF4按上述方式水解,每生成4molXe转移16mol电子
D.XeF2加入水中,在水分子的作用下,将重新生成Xe和F2
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F2和Xe在一定条件下可生成XeF2、XeF4和XeF6三种氟化氙,它们都是极强的氧化剂(其氧化性依次递增),都极易与水反应.其中6XeF4+12H2O | |
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A. |
XeF2分子中各原子均达到八电子的稳定结构 |
B. |
某种氟化氙的晶体结构单元如图所示,可推知其化学式为XeF6
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C. |
XeF4按已知方式水解,每生成2 mol Xe转移8 mol电子 |
D. |
XeF2加入水中,在水分子的作用下,将重新生成Xe和F2 |