多晶硅(硅单质的一种)被称为“微电子大厦的基石”，制备中副产物以SiCl₄为主，它对环境污染很大，能遇水强烈水解，放出大量的热。研究人员利用SiCl₄水解生成的盐酸和钡矿粉(主要成分为BaCO₃，且含有钙、铁、镁等离子)制备BaCl₂·2H₂O，工艺流程如图所示。已知常温下Fe^3＋、Mg^2＋完全沉淀的pH分别是3.4、12.4。

(1)SiCl₄水解控制在40 ℃的原因是___________________________________。
已知：SiCl₄(s)＋H₂(g)=SiHCl₃(s)＋HCl(g) ΔH₁＝＋47 kJ·mol^－1
Si(s)＋3HCl(g)=SiHCl₃(s)＋H₂(g) ΔH₂＝－189 kJ·mol^－1
则由SiCl₄制备硅的热化学方程式为__________________________________。
(2)加钡矿粉时生成BaCl₂的离子反应方程式是_________________________。
(3)加20% NaOH溶液调节pH＝12.5，得到滤渣A的主要成分是________，控制温度70 ℃的目的是____________________________________________。
(4)BaCl₂滤液经蒸发浓缩、降温结晶、过滤，再经真空干燥后得到BaCl₂·2H₂O。实验室中蒸发浓缩，用到的含硅酸盐的仪器有__________种。
(5)为体现该工艺的绿色化学思想，该工艺中能循环利用的物质是____________。

多晶硅(硅单质的一种)被称为“微电子大厦的基石”，制备中副产物以SiCl4为主，它对环境污染很大，能遇水强烈水解，放出大量的热。研究人员利用SiCl4水解生成的盐酸和钡矿粉(主要成分为BaCO3，且含有钙、铁、镁等离子)制备BaCl2·2H2O，工艺流程如图所示。已知常温下Fe3＋、Mg2＋完全沉淀的pH分别是3.4、12.4。

(1)SiCl4水解控制在40 ℃的原因是___________________________________。

已知：SiCl4(s)＋H2(g)=SiHCl3(s)＋HCl(g) ΔH1＝＋47 kJ·mol－1

Si(s)＋3HCl(g)=SiHCl3(s)＋H2(g) ΔH2＝－189 kJ·mol－1

则由SiCl4制备硅的热化学方程式为__________________________________。

(2)加钡矿粉时生成BaCl2的离子反应方程式是_________________________。

(3)加20% NaOH溶液调节pH＝12.5，得到滤渣A的主要成分是________，控制温度70 ℃的目的是____________________________________________。

(4)BaCl2滤液经蒸发浓缩、降温结晶、过滤，再经真空干燥后得到BaCl2·2H2O。实验室中蒸发浓缩，用到的含硅酸盐的仪器有__________种。

(5)为体现该工艺的绿色化学思想，该工艺中能循环利用的物质是____________。

（7分）（1）室温下，把1 mL 0.1 mol·L^－1的H₂SO₄加水稀释成2 L溶液，在此溶液中由水电离产生的H^＋，其浓度接近于               

(2)室温时，将0.1mol/L盐酸和0.07mol/L氢氧化钡溶液1:5（体积比）混合后，该混合溶液的pH＝_______

(3)某温度时，0.1mol·L^－1 NaOH溶液的pH＝12。该温度下，10体积pH＝a的某强酸与1体积pH＝b的某强碱混合后，溶液呈中性，则a和b满足的关系____________________

（7分）（1）室温下，把1 mL 0.1 mol·L^－1的H₂SO₄加水稀释成2 L溶液，在此溶液中由水电离产生的H^＋，其浓度接近于               

(2)室温时，将0.1 mol/L盐酸和0.07mol/L氢氧化钡溶液1:5（体积比）混合后，该混合溶液的pH＝_______

(3)某温度时，0.1 mol·L^－1 NaOH溶液的pH＝12。该温度下，10体积pH＝a的某强酸与1体积pH＝b的某强碱混合后，溶液呈中性，则a和b满足的关系____________________