[基础等级评价]1．下表各组物质中.满足下图物质一步转化关系的选项是( ) 选项 X Y Z A Na NaOH ——青夏教育精英家教网—

单质硅是信息产业中重要的基础材料．通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硼、磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度为450℃～500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅．以下是实验室制备四氯化硅的装置图：

物质	SiCl₄	BCl₃	AlCl₃	FeCl₃	PCl₅
沸点/℃	57.7	12.8	-	315	-
熔点/℃	-70.0	-107.2	-	-	-
升华温度/℃	-	-	180	300	162

请回答下列问题：
（1）装置A中g管的作用是

平衡压强，使液体从分液漏斗中顺利流下

；装置C中的试剂是

浓硫酸

．
（2）甲方案：f接装置Ⅰ；乙方案：f接装置Ⅱ．但是装置Ⅰ、Ⅱ都有不足之处，请你评价后填写下表．

方案	优点	缺点
甲	①收集产品的导管粗，不会堵塞导管 ②冷凝产品，减少产品损失 ①收集产品的导管粗，不会堵塞导管 ②冷凝产品，减少产品损失	①空气中的水蒸气进入产品收集装置，使四氯化硅水解 ②尾气没有处理，污染环境 ①空气中的水蒸气进入产品收集装置，使四氯化硅水解 ②尾气没有处理，污染环境
乙	①有尾气处理装置，注重环保 ②避免空气中的水蒸气进入装置 ①有尾气处理装置，注重环保 ②避免空气中的水蒸气进入装置	①产品易堵塞导管 ②没有冷凝装置，产品易损失 ①产品易堵塞导管 ②没有冷凝装置，产品易损失

（3）在上述（2）的评价基础上，请你设计一个合理方案并用文字表达：

在装置Ⅰ的i处接干燥管j

．
（4）SiCl₄与H₂反应的化学方程式为

SiCl₄+2H₂

SiCl₄+2H₂

高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料，是制备半导体的重要材料，它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”。高纯硅通常用以下方法制备：用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含Fe、Al、B、P等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度为450～500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置图。

相关信息：a．四氯化硅遇水极易水解；b．硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接化合生成相应的氯化物；c．有关物质的物理常数见下表：

物质	SiCl₄	BCl₃	AlCl₃	FeCl₃	PCl₅
沸点/℃	57.7	12.8	—	315	—
熔点/℃	－70.0	－107.2	—	—	—
升华温度/℃	—	—	180	300	162

请回答下列问题：

（1）仪器e的名称为____________，装置A中f管的作用是_______________________________________，其中发生反应的离子方程式为_____ ____________________________________ _______。

（2）装置B中的试剂是____________。

（3）某学习小组设计了以下两种实验方案：方案甲：g接装置Ⅰ；方案乙：g接装置Ⅱ。但是甲乙两个方案中虚线内装置均有不足之处，请你评价后填写下表。

方案	不足之处
甲
乙

（4）在上述（3）的评价基础上，请设计一个合理方案：___________ ________ 。

（5）通过上述合理的装置制取并收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是（填写元素符号）。

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高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料，是制备半导体的重要材料，它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”。高纯硅通常用以下方法制备：用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含Fe、Al、B、P等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度为450～500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置图。