摘要：15．光刻胶是大规模集成电路.印刷电路板和激光制版技术中的关键材料.某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B. ? ? A B (1)请写出A中含有的官能团 . (2)A经光照固化转变为B.发生了 反应. (3)写出A与NaOH溶液反应的化学方程式 . (4)写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式 . 解析:(1)由A的结构简式可以看出.它的分子中会有酯基.碳碳双键和苯取代基.答案可任选两种, (2)由A到B的转化关系不难看出是由A分子中的双键通过加聚而生成B, (3)因含有酯基 因此A与NaOH反应实际是酯在碱性条件下的水解生成相应盐 , (4)B在酸性条件下也是发生了酯的水解反应将 变为 .从而得答 案. 答案:(1)酯基.碳碳双键.苯基加成
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光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料．某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B．
（1）请指出A中含有的官能团名称
（2）A经光照固化转变为B，发生了
（3）写出A与NaOH溶液反应的化学方程式
．
（4）写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式
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（1）请指出A中含有的官能团名称
酯基、碳碳双键
酯基、碳碳双键
（填两种）．（2）A经光照固化转变为B，发生了
加成
加成
反应（填反应类型）．（3）写出A与NaOH溶液反应的化学方程式
（4）写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式
C18H16O4
C18H16O4
．
光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料。某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B。
(1)请指出A中含有的官能团_________(填两种)。
(2)A经光照固化转变为B，发生了_________反应(填反应类型)。
(3)写出A与NaOH溶液反应的化学方程式________________________。
(4)写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式____________。
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光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料。某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B。
(1)请指出A中含有的官能团(填两种)。
(2)A经光照固化转变为B，发生了_______________反应(填反应类型)。
(3)写出A与NaOH溶液反应的化学方程式____________________________________。
(4)写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式_______________________。
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