(16分)铁是人类较早使用的金属之一。运用铁的有关知识，回答下列问题：

(1)向沸水中逐滴滴加1mol/LFeCl₃溶液，至液体呈透明的红褐色，形成该分散系的微粒大小范围是          nm

(2)电子工业需用30％的FeCl₃溶液腐蚀敷在绝缘板上的铜，制造印刷电路板。请写出FeCl₃溶液与铜反应的离子方程式

                                          。

检验反应后的溶液中还存在Fe³⁺的试剂是                              

(3)欲从腐蚀后的废液中回收铜并重新获得FeCl₃溶液，现有下列试剂：①蒸馏水

②铁粉③浓硝酸④浓盐酸⑤烧碱⑥浓氨水⑦氯气，需要用到的试剂是           (填序号)

整个实验过程中涉及到的离子方程式

                                                                      、

                                   、                                  、

                                   、

(15 分) S₂Cl₂是工业上常用的硫化剂，实验室制备S₂Cl₂的反应原理有两种：

① CS₂＋3Cl₂℃CCl₄＋S₂Cl₂；② 2S＋Cl₂℃S₂Cl₂。

已知：S₂Cl₂易与水反应，S₂Cl₂＋Cl₂2SCl₂。

下列是几种物质的熔沸点和反应装置图

（1）利用上图装置（部分夹持仪器已略去）来制备S₂Cl₂，反应原理是          （填写以上两种反应原理的数字序号）

（2）若装置C更换成干燥管，则装置C中可选用的固体试剂是                      。

（3）D装置中冷凝管的作用是               ；反应结束后，将D装置锥形瓶内的混合物中分离出产物的方法是                 。

（4）S₂Cl₂与足量水反应有黄色沉淀生成，产生的无色气体能使品红溶液褪色，则该反应的化学方程式为                                    。

（5）为了提高制得的产品S₂Cl₂的纯度，关键的操作是控制好温度和                 。

（6）上图尾部装置不够完善，存在的问题是                                      。

(16分)氨气是一种重要的基础化工原料，用途广泛。
（1）在微电子工业中，氨水可作刻蚀剂H₂O₂的清除剂，产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH₃ + 3H₂O₂=         +6H₂O
（2）工业中常用以下反应合成氨：N₂+3H₂2NH₃ △H＜0。某实验室在三个不同条件的密闭容器中，分别加入N₂和H₂，浓度均为c(N₂) =" 0.100mol/L," c(H₂) = 0.300mol/L，进行反应时, N₂的浓度随时间的变化如图①、②、③曲线所示。

该反应平衡常数的数学表达式为            ；实验②平衡时H₂的转化率为_____       。
（3）据图所示，②、③两装置中各有一个条件与①不同。请指出，并说明判断的理由。
②条件：_______     理由：                                     ________
③条件：_______     理由：                                     ________

(16分)铁是人类较早使用的金属之一。运用铁的有关知识，回答下列问题：
(1)向沸水中逐滴滴加1mol/LFeCl₃溶液，至液体呈透明的红褐色，形成该分散系的微粒大小范围是         nm
(2)电子工业需用30％的FeCl₃溶液腐蚀敷在绝缘板上的铜，制造印刷电路板。请写出FeCl₃溶液与铜反应的离子方程式
                                         。
检验反应后的溶液中还存在Fe³⁺的试剂是                              
(3)欲从腐蚀后的废液中回收铜并重新获得FeCl₃溶液，现有下列试剂：①蒸馏水
②铁粉③浓硝酸④浓盐酸⑤烧碱⑥浓氨水⑦氯气，需要用到的试剂是          (填序号)
整个实验过程中涉及到的离子方程式
 
                                                                     、
 
                                  、                                 、
                                  、

(16分)氨气是一种重要的基础化工原料，用途广泛。

在微电子工业中，氨水可作刻蚀剂H₂O₂ 的清除剂，产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH₃+3H₂O₂=     +6H₂O

工业中常用以下反应合成氨：N₂+3H₂2NH₃  △H＜0。某实验室在三个不同条件的密闭容器中，分别加入浓度均为C(N₂)=0.100mol/L,C(H₂)=0.300mol/L进行反应时, N₂的浓度随时间的变化如下图①、②、③曲线所示。

（1）该反应平衡常数的数学表达式            ；实验②平衡时H₂的转化率为_______

（2）据图所示，②、③两装置中各有一个条件与①不同。请指出，并说明判断的理由。

②条件：_______      理由：                                     ________

③条件：_______      理由：                                     ________