摘要：18．在20L恒容的密闭容器中.加入3mo1SO3 (g) 和l mo1O2.在一定温度下使其反 应.反应至4min时.氧气的浓度为0.09 mol·L-1.当反应到8min时.反应到达平衡. 此时三氧化硫浓度c (SO3) = a mol·L-1. (1)0min-4min内生成O2平均速率v(O2) = mol·L-1·min-1 (2)达到平衡时c (O2)=c (SO2).则a = mol·L-1.在下列坐标系中作出 0min-8min及之后SO2.O2.SO3浓度随时间变化曲线. (3)若起始时按下表数据投料.相同温度下达到平衡时.三氧化硫浓度大于a mol·L-1的是
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(共8分)在恒温恒容的密闭容器中通入1mol N2和Xmol H2发生如下反应：N2＋3H2
2NH3。达到平衡后，测得反应放出的热量为18.4kJ，混合气体的物质的量为3.6mol，容器内的压强变为原来的90%。
(1)起始时充入H2的物质的量为 mol，氢气的转化率为 ；
(2)该反应的热化学方程式为 ；
(3)若起始时加入N2、H2、NH3的物质的量分别为a、b、c，达到平衡时各组分物质的量与上述平衡相同。若维持反应向正方向进行，则起始时c的取值范围是 。
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(共8分)在恒温恒容的密闭容器中通入1mol N2和Xmol H2发生如下反应：N2＋3H2
2NH3。达到平衡后，测得反应放出的热量为18.4kJ，混合气体的物质的量为3.6mol，容器内的压强变为原来的90%。
(1)起始时充入H2的物质的量为 mol，氢气的转化率为 ；
(2)该反应的热化学方程式为 ；
(3)若起始时加入N2、H2、NH3的物质的量分别为a、b、c，达到平衡时各组分物质的量与上述平衡相同。若维持反应向正方向进行，则起始时c的取值范围是 。
（2009?重庆）工业上电解饱和食盐能制取多种化工原料，其中部分原料可用于制备多晶硅．（1）图是离子交换膜法电解饱和食盐水示意图，电解槽阳极产生的气体是
氯气
氯气
；NaOH溶液的出口为a
a
（填字母）；精制饱和食盐水的进口为d
d
（填字母）；干燥塔中应使用的液体是浓硫酸
浓硫酸
．（2）多晶硅主要采用SiHCl3还原工艺生产，其副产物SiCl4的综合利用收到广泛关注．
①SiCl4可制气相白炭黑（与光导纤维主要原料相同），方法为高温下SiCl4与H2和O2反应，产物有两种，化学方程式为
SiCl4+2H2+O2
SiO2+4HCl
| ||
SiCl4+2H2+O2
SiO2+4HCl
．
| ||
②SiCl4可转化为SiHCl3而循环使用．一定条件下，在20L恒容密闭容器中的反应：3SiCl4（g）+2H2（g）+Si（g）
4SiHCl3（g）达平衡后，H2与SiHCl3物质的量浓度分别为0.140mol/L和0.020mol/L，若H2全部来源于离子交换膜法的电解产物，理论上需消耗纯NaCl的质量为0.351
0.351
kg．（3）采用无膜电解槽电解饱和食盐水，可制取氯酸钠，同时生成氢气，现制得氯酸钠213.0kg，则生成氢气
134.4
134.4
M3（标准状况）．
在20L恒容的密闭容器中，加入3molSO3（g）和1mol氧气，在某温度下使其反应，反应至4min时，氧气的浓度为0.06mol/L，当反应到8min时，反应到达平衡．（1）0min-4min内生成O2的平均速率v（O2）=
0.025mol?L-1?min-1
0.025mol?L-1?min-1
mol/（L?min）（2）整个过程中，各物质的浓度与时间关系如图所示，则该温度下的平衡常数
K=
0.4mol?L-1
0.4mol?L-1
（3）若起始时按下表数据投料，相同温度下达到平衡时，三氧化硫浓度大于0.05mol/L的是
BD
BD
，此时的平衡常数与（2）小题比较等于
等于
（填“大于”、“小于”或“等于”）| A | B | C | D | |
| SO3 | 1mol | 3mol | 3mol | 0mol |
| SO2 | 2mol | 1.5mol | 0mol | 6mol |
| O2 | 2mol | 1mol | 0mol | 5mol |
①③④
①③④
（填序号）①体系内压强不再改变
②容器内气体的密度不再改变
③混合气体的平均分子量不再改变
④V正（SO3）=2V逆（O2）
⑤n（SO3）：n（O2）：n（SO2）=2：1：2．
（2013?潍坊模拟）工业上电解饱和食盐水能制取多种化工原料，其中部分原料可用于制备多晶硅．下图1是离子交换膜法（允许钠离子通过，不允许氢氧根与氯离子通过）电解饱和食盐水，电解槽阳极产生的气体是
（1）多晶硅主要采用SiHCl3还原工艺生产，其副产物SiCl4的综合利用受到广泛关注．SiCl4可制气相白炭黑（与光导纤维主要原料相同），方法为高温下SiCl4、H2、O2反应，产物有两种，化学方程式为
（2）如图2，实验室制备H2和Cl2通常采用下列反应：
Zn+H2SO4?ZnSO4+H2↑，MnO2+4HCl(浓)
MnCl2+Cl2↑+2H2O
据此，从下列所给仪器装置中选择制备并收集H2的装置
可选用制备气体的装置：
（3）采用无膜电解槽电解饱和食盐水，可制取氯酸钠，同时生成氢气．现制得氯酸钠213.0kg，则生成氢气
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氯气
氯气
，NaOH溶液的出口为a
a
（填字母），精制饱和食盐水的进口为d
d
（填字母），干燥塔中应使用的液体是浓硫酸
浓硫酸
．（1）多晶硅主要采用SiHCl3还原工艺生产，其副产物SiCl4的综合利用受到广泛关注．SiCl4可制气相白炭黑（与光导纤维主要原料相同），方法为高温下SiCl4、H2、O2反应，产物有两种，化学方程式为
SiCl4+2H2+O2
SiO2+4HCl
| ||
SiCl4+2H2+O2
SiO2+4HCl
．SiCl4可转化为SiCl3而循环使用．一定条件下，在20L恒容密闭容器中反应3SiCl4（g）+2H2（g）+Si（s）═4SiHCl3（g）达平衡后，H2与SiHCl3物质的量浓度分别为0.140mol/L和0.020mol/L，若H2全部来源于离子交换膜法的电解产物，理论上需消耗NaCl的质量为
| ||
0.35
0.35
kg．（2）如图2，实验室制备H2和Cl2通常采用下列反应：
Zn+H2SO4?ZnSO4+H2↑，MnO2+4HCl(浓)
| ||
. |
据此，从下列所给仪器装置中选择制备并收集H2的装置
e
e
（填代号）和制备并收集干燥、纯净Cl2的装置d
d
（填代号）．可选用制备气体的装置：
（3）采用无膜电解槽电解饱和食盐水，可制取氯酸钠，同时生成氢气．现制得氯酸钠213.0kg，则生成氢气
134.4
134.4
m3（标准状况）．（忽略可能存在的其他反应）