下列实验中，所采取的分离方法与对应原理都正确的是
A．A
B．B
C．C
D．D
| 选项 | 目的 | 分离方法 | 原理 |
| A | 分离溶于水中的碘 | 乙醇萃取 | 碘在乙醇中的溶解度较大 |
| B | 分离乙酸乙酯和乙醇 | 分液 | 乙酸乙酯和乙醇的密度不同 |
| C | 除去KNO3固体中混杂的NaCl | 重结晶 | NaCl在水中的溶解度很大 |
| D | 除去丁醇中的乙醚 | 蒸馏 | 丁醇与乙醚的沸点相差较大 |
A．A
B．B
C．C
D．D
醇脱水是合成烯烃的常用方法，实验室合成环己烯的反应和实验装置如图所示．可能用到的有关数据如下：
合成反应：
在a中加入20g环己醇和2小片碎瓷片，冷却搅动下慢慢加入1mL浓硫酸．b中通入冷却水后，开始缓慢加热a，控制馏出物的温度不超过90℃．
分离提纯：
反应粗产物倒入分液漏斗中分别用少量5%碳酸钠溶液和水洗涤，分离后加入无水氯化钙颗粒，静置一段时间后弃去氯化钙．最终通过蒸馏得到纯净环己烯10g．
回答下列问题：
（1）装置b的名称是 ．
（2）加入碎瓷片的作用是 ；如果加热一段时间后发现忘记加瓷片，应该采取的正确操作是 （填正确答案标号）．
A．立即补加
B．冷却后补加
C．不需补加
D．重新配料
（3）本实验中最容易产生的副产物的结构简式为 ．
（4）分液漏斗在使用前须清洗干净并 ；在本实验分离过程中，产物应该从分液漏斗的 （填“上口倒出”或“下口放出”）．
（5）分离提纯过程中加入无水氯化钙的目的是 ．
（6）在环己烯粗产物蒸馏过程中，不可能用到的仪器有 （填正确答案标号）．
A．圆底烧瓶
B．温度计
C．吸滤瓶
D．球形冷凝管
E．接收器
（7）本实验所得到的环己烯产率是 （填正确答案标号）．
A.41%
B.50%
C.61%
D.70%
| 相对分子质量 | 密度/ | 沸点/℃ | 溶解性 | |
| 环乙醇 | 100 | 0.9618 | 161 | 微溶于水 |
| 环己烯 | 82 | 0.8102 | 83 | 难溶于水 |
在a中加入20g环己醇和2小片碎瓷片，冷却搅动下慢慢加入1mL浓硫酸．b中通入冷却水后，开始缓慢加热a，控制馏出物的温度不超过90℃．
分离提纯：
反应粗产物倒入分液漏斗中分别用少量5%碳酸钠溶液和水洗涤，分离后加入无水氯化钙颗粒，静置一段时间后弃去氯化钙．最终通过蒸馏得到纯净环己烯10g．
回答下列问题：
（1）装置b的名称是 ．
（2）加入碎瓷片的作用是 ；如果加热一段时间后发现忘记加瓷片，应该采取的正确操作是 （填正确答案标号）．
A．立即补加
B．冷却后补加
C．不需补加
D．重新配料
（3）本实验中最容易产生的副产物的结构简式为 ．
（4）分液漏斗在使用前须清洗干净并 ；在本实验分离过程中，产物应该从分液漏斗的 （填“上口倒出”或“下口放出”）．
（5）分离提纯过程中加入无水氯化钙的目的是 ．
（6）在环己烯粗产物蒸馏过程中，不可能用到的仪器有 （填正确答案标号）．
A．圆底烧瓶
B．温度计
C．吸滤瓶
D．球形冷凝管
E．接收器
（7）本实验所得到的环己烯产率是 （填正确答案标号）．
A.41%
B.50%
C.61%
D.70%
2H2O+O2↑
[化学-选修3：物质结构与性质]
硅是重要的半导体材料，构成了现代电子工业的基础．请回答下列问题：
（1）基态Si原子中，电子占据的最高能层符号为______，该能层具有的原子轨道数为______、电子数为______．
（2）硅主要以硅酸盐、______等化合物的形式存在于地壳中．
（3）单质硅存在与金刚石结构类似的晶体，其中原子与原子之间以______相结合，其晶胞中共有8个原子，其中在面心位置贡献______个原子．
（4）单质硅可通过甲硅烷（SiH4）分解反应来制备．工业上采用Mg2Si和NH4Cl在液氨介质中反应制得SiH4，该反应的化学方程式为______．
（5）碳和硅的有关化学键键能如下所示，简要分析和解释下列有关事实：
①硅与碳同族，也有系列氢化物，但硅烷在种类和数量上都远不如烷烃多，原因是______．
②SiH4的稳定性小于CH4，更易生成氧化物，原因是______．
（6）在硅酸盐中，SiO
四面体（如下图（a））通过共用顶角氧离子可形成岛状、链状、层状、骨架网状四大类结构型式．图（b）为一种无限长单链结构的多硅酸根，其中Si原子的杂化形式为______，Si与O的原子数之比为______，化学式为______．
0 66819 66827 66833 66837 66843 66845 66849 66855 66857 66863 66869 66873 66875 66879 66885 66887 66893 66897 66899 66903 66905 66909 66911 66913 66914 66915 66917 66918 66919 66921 66923 66927 66929 66933 66935 66939 66945 66947 66953 66957 66959 66963 66969 66975 66977 66983 66987 66989 66995 66999 67005 67013 203614
硅是重要的半导体材料，构成了现代电子工业的基础．请回答下列问题：
（1）基态Si原子中，电子占据的最高能层符号为______，该能层具有的原子轨道数为______、电子数为______．
（2）硅主要以硅酸盐、______等化合物的形式存在于地壳中．
（3）单质硅存在与金刚石结构类似的晶体，其中原子与原子之间以______相结合，其晶胞中共有8个原子，其中在面心位置贡献______个原子．
（4）单质硅可通过甲硅烷（SiH4）分解反应来制备．工业上采用Mg2Si和NH4Cl在液氨介质中反应制得SiH4，该反应的化学方程式为______．
（5）碳和硅的有关化学键键能如下所示，简要分析和解释下列有关事实：
| 化学键 | C-C | C-H | C-O | Si-Si | Si-H | Si-O |
| 键能/ | 356 | 413 | 336 | 226 | 318 | 452 |
②SiH4的稳定性小于CH4，更易生成氧化物，原因是______．
（6）在硅酸盐中，SiO
四面体（如下图（a））通过共用顶角氧离子可形成岛状、链状、层状、骨架网状四大类结构型式．图（b）为一种无限长单链结构的多硅酸根，其中Si原子的杂化形式为______，Si与O的原子数之比为______，化学式为______．
RCOCH=CHRˊ