碳化硅(SiC) 、氧化铝(Al2O3) 和氮化硅(Si3N4)是优良的高温结构陶瓷,在工业生产和科技领域有重要用途。
(1)Al的原子结构示意图为                ;Al与NaOH溶液反应的离子方程式为
                                                              
(2)氮化硅抗腐蚀能力很强,但易被氢氟酸腐蚀,氮化硅与氢氟酸反应生成四氟化硅和一种铵盐,其反应方程式为                                                    
(3)工业上用化学气相沉积法制备氮化硅,其反应如下:
3SiCl4(g) + 2N2(g) + 6H2(g)Si3N4(s) + 12HCl(g)  △H<0  
某温度和压强条件下,分别将0.3mol SiCl4(g)、0.2mol N2(g)、0.6mol H2(g)充入2L密闭容器内,进行上述反应,5min达到平衡状态,所得Si3N4(s)的质量是5.60g。
①H2的平均反应速率是         mol/(L·min)。
②平衡时容器内N2的浓度是          mol·L-1
③SiCl4(g)的转化率是        
④若按n(SiCl4) : n(N2) : n(H2) =" 3" : 2 : 6的投料配比,向上述容器不断扩大加料,SiCl4(g)的转化率应         (填“增大”、“减”或“不变”)。
⑤工业上制备纯硅反应的热化学方程式如下:
SiCl4(g)+2H2(g) Si(s)+4HCl(g);△H=+QkJ·mol-1(Q>0)
某温度、压强下,将一定量的反应物通入密闭容器进行以上的反应(此条件下为可逆反应),下列叙述正确的是(   )
A.反应过程中,若增大压强能提高SiCl4的转化率
B.若反应开始时SiCl4为1mol,则达到平衡时,吸收热量为QkJ
C.当反应吸收热量为0.025QkJ时,生成的HCl通入100mL1mol·L-1的NaOH恰好反应
D.反应至4min时,若HCl的浓度为0.12mol·L-1,则H2的反应速率为0.03mol/(L·min)

原子序数由小到大排列的四种短周期元素X、Y、Z、W,四种元素的原子序数之和为32,在周期表中X是原子半径最小的元素,Y、Z左右相邻,Z、W位于同主族。
(1)用电子式表示X与W组成的化合物的形成过程                     
(2)由X与Z组成的某化合物中存在非极性键,则该化合物的分子式为      
(3)由X、Y、Z、W四种元素中的三种组成的一种强酸,该强酸的稀溶液不能与铜反应,浓溶液能与铜在加热条件下反应,该反应的化学方程式为:               
(4)由X、Y、Z、W四种元素组成的一种离子化合物A
①已知1molA能与足量NaOH浓溶液反应生成标准状况下44.8L气体。写出加热条件下A与NaOH浓溶液反应的离子方程式:                         
②又知A既能与盐酸反应,又能与氯水反应,写出与盐酸反应的离子方程式:         
(5)由X、Y、Z、W和Fe五种元素组成的式量为392的化合物B,1molB中含有6 mol结晶水。对化合物B进行如下实验:
取B的溶液加入足量的NaOH溶液并加热,产生白色沉淀和无色刺激性气味气体。过一段时间白色沉淀变为灰绿色,最终变为红褐色;
另取B的溶液,加入过量的BaCl2溶液产生白色沉淀,加盐酸沉淀不溶解.
由上述实验现象可知:B的化学式为                        

 0  54339  54347  54353  54357  54363  54365  54369  54375  54377  54383  54389  54393  54395  54399  54405  54407  54413  54417  54419  54423  54425  54429  54431  54433  54434  54435  54437  54438  54439  54441  54443  54447  54449  54453  54455  54459  54465  54467  54473  54477  54479  54483  54489  54495  54497  54503  54507  54509  54515  54519  54525  54533  203614 

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