①邻羟基苯甲醛在一定条件下生成邻羟基苯甲酸；

②邻羟基苯甲酸与 CH3COCl 反应生成阿司匹林。

下列说法正确的是( )

A.反应①可使用酸性 KMnO4 溶液作氧化剂

B.反应②的另一产物是 HCl

C.1mol 阿司匹林最多可以和 2molNaOH 反应

D.邻羟基苯甲醛分子中在同一平面上的原子最多为 12 个

A.负极反应式为

B.电池工作时，由M极区移向N极区

C.相同条件下，M极区生成的与N极区生成的的体积之比为

D.好氧微生物反应器中发生的反应的离子方程式为

A. 在t℃时PdI2的Ksp=7.0×10-9

B. 图中a点是饱和溶液，b、d两点对应的溶液都是不饱和溶液

C. 向a点的溶液中加入少量NaI固体，溶液由a点向c点方向移动

D. 要使d点移动到b点可以降低温度

下列说法错误的是（ ）

A.Y的分子式为C10H8O3

B.由X制取Y过程中可得到乙醇

C.一定条件下，Y能发生加聚反应

D.等物质的量的X、Y分别与NaOH溶液反应，最多消耗NaOH的物质的量之比为3：2

(1)A、B、C的元素名称分别为A______、B______、C_____。

(2)A的原子结构示意图为________。

(3)B在元素周期表中的位置是_______，B最高价氧化物的化学式为______。

(4)A的简单氢化物分子式为_______；B、C的最高价氧化物水化物的分子式分别为____、____。

①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅

②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3：Si+3HCl=SiHCl3+H2

③SiHCl3与过量H2在1 100 ℃反应制得纯硅，已知SiHCl3能与H2O强烈反应，在空气中易自燃。

请回答下列问题：

(1)第①步制备粗硅的化学反应方程式为_____。

(2)粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl3(沸点33.0 ℃)中含有少量SiCl4(沸点57.6 ℃)和HCl(沸点-84.7 ℃)，提纯SiHCl3采用的方法为_____。

(3)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如图(热源及夹持装置略去)：

①装置B中的试剂是_____，装置C中的烧瓶需要加热，其目的是______。

②反应一段时间后，装置D中观察到的现象是____，装置D中发生反应的化学方程式为____。

③为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及____。

④为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂是____(填写字母代号)。

a.碘水　b.氯水　c.NaOH溶液 d.KSCN溶液　 e.Na2SO3溶液

【题目】有、、、、和六种粒子，属于同一氧化还原反应中的反应物和生成物，下列叙述不正确的是

A.被氧化和被还原的离子数目比为

B.该反应说明、、、在溶液不能大量共存

C.每发生氧化反应，转移

D.若利用该反应设计原电池，则负极反应为：

(1)操作①的名称是______。

(2)向滤液中加入双氧水的作用是______。

(3)试剂a可以是______（填序号）。

①四氯化碳 ②苯 ③酒精 ④乙酸

(4)I–和IO3-在酸性条件下生成I2的离子方程式是________________。

(5)上图中，含I2的溶液经3步转化为I2的悬浊液，其目的是____________。

A.1L0.2mol·L－1的NaHCO3溶液中HCO3－和CO32－离子数之和为0.2NA

B.H2O2＋Cl2=2HCl＋O2反应中，每生成32gO2，转移2NA个电子

C.3.6gCO和N2的混合气体含质子数为1.8NA

D.常温常压下，30g乙烷气体中所含共价键的数目为7NA

A.用如图装置可以制备沉淀Fe(OH)2

B.配制FeCl3溶液时，先将氯化铁晶体溶于较浓的盐酸中，再加水稀释到所需要的浓度

C.向FeCl2溶液中加入少量铁粉是为了防止Fe2＋被氧化

D.FeCl3溶液中滴加KSCN溶液会生成红色沉淀