【题目】单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450500 ),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息如下:

a.四氯化硅遇水极易水解;

b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;

c.有关物质的物理常数见下表:

物质

SiCl4

BCl3

AlCl3

FeCl3

PCl5

沸点/

57.7

12.8

315

熔点/

70.0

107.2

升华温度/

180

300

162

请回答下列问题:

(1)写出装置A中发生反应的离子方程式:______________________________

(2)装置F的名称是___________________;装置C中的试剂是_____________;装置E中的h瓶需要冷却的理由是_____________________________________

(3)装置Eh瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是____(填写元素符号)

(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,使铁元素还原成Fe2,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式为5Fe2MnO4-8H==5Fe3Mn24H2O

①滴定前是否要滴加指示剂?________(”)

②某同学称取5.000 g残留物,经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液,移取25.00 mL试样溶液,用1.000×102 mol· L1 KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00 mL,则残留物中铁元素的质量分数是_____________

 0  194588  194596  194602  194606  194612  194614  194618  194624  194626  194632  194638  194642  194644  194648  194654  194656  194662  194666  194668  194672  194674  194678  194680  194682  194683  194684  194686  194687  194688  194690  194692  194696  194698  194702  194704  194708  194714  194716  194722  194726  194728  194732  194738  194744  194746  194752  194756  194758  194764  194768  194774  194782  203614 

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