[题目]设NA表示阿伏加徳罗常数的值.下列说法中不正确的是A. 0.1mol-NH2(氨基)中所含有的电子数为0.9NAB. lmol D218O所含的中子数为12NAC. 14 g聚乙烯与聚丙烯的混——青夏教育精英家教网—

【题目】设NA表示阿伏加徳罗常数的值。下列说法中不正确的是

A. 0.1mol-NH2(氨基)中所含有的电子数为0.9NA

B. lmol D218O所含的中子数为12NA

C. 14 g聚乙烯与聚丙烯的混合物中含H原子的数目为2NA

D. —定条件下，0.2 mol SO2与足量O2充分反应，生成的SO3分子数为0.2NA

【题目】下列离子方程式或电离方程式的书写正确的是（）

A. NaHSO4熔融：NaHSO4=Na＋＋HSO4-

B. Al(OH)3酸式电离：　Al(OH)3= H＋＋AlO2- + H2O

C. 向Na2S溶液中滴入少量稀盐酸：S 2-＋2H＋=H2S↑

D. Ca(HCO3)2溶液与过量NaOH溶液反应：OH－＋HCO＋Ca2＋=CaCO3↓＋H2O

【题目】某溶液中可能含有H+、Na+、NH4+、Fe3+、Al3+、SO42-、CO32-等离子．当向该溶液中加入一定物质的量浓度的NaOH溶液时，发现生成沉淀的物质的量随NaOH溶液的体积变化的图象如图所示，下列说法不正确的是( )

A. 原溶液中一定含有的阳离子是H+、NH4+、Fe3+、Al3+

B. 原溶液中一定含有SO42-

C. 原溶液中含有的Fe3+和Al3+的物质的量之比为1：1

D. 反应最后形成的溶液中溶质为Na2SO4

【题目】第三周期的元素单质及其化合物有广泛的用途，请根据相关知识回答下列问题：

(1)原子最外层电子数是核外电子总数的元素，其原子结构示意图为________________；还原性最弱的简单阴离子__________ (填离子符号）。

(2)晶体硅(熔点1410℃)是良好的半导体材料，可通过如图所示过程制备：

在上述由SiCl4制纯硅的反应中，测得每生成2.8kg纯硅需要吸收akJ热量，请写出该反应的热化学方程式___________________。

(3)氯化铝的水溶液可用于净水，其原因是_________ (用离子方程式表示)。

工业上用铝土矿(主要成分为Al2O3，含有Fe2O3、SiO2等杂质)来制取无水氯化铝的一种工艺流程如图所示：

已知：

物质	SiCl4	AlCl3	FeCl3	FeCl2	Al2O3	Fe2O3	SiO2
沸点/℃	57.6	180(升华)	300(升华)	1023	2980	3414	2230

①工业制铝时，电解Al2O3而不电解AlCl3的理由是____________。

② 步骤Ⅰ中焙烧使固体水分挥发、气孔数目增多，其作用是_________ (只要求写出一种)。

③步骤Ⅱ中若不通入氯气和氧气，则生成相对原子质量比硅大的单质______________。

④尾气经冷却至室温后用足量的KOH浓溶液吸收，生成的盐中除了K2CO3外，还有3种，其化学式分别为________________；其中一种盐可用于实验室制O2，若不加催化剂，400℃时分解只生成两种盐，其中一种是无氧酸，另一种盐的阴阳离子个数比为1:1。写出该反应的化学方程式：________________。