单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450 一500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
相关信息如下:
a.四氯化硅遇水极易水解;
b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;
c.有关物质的物理常数见下表:
请回答下列问题:
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式____。
(2)装置A中g管的作用是____;装置c中的试剂是____;装置E中的h瓶需要冷却的理由是______ 。
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是_____(填写元素符号)。
(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,使铁元素还原成Fe2+, 再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式是:5Fe2+ +MnO4- +8H+= 5Fe3++Mn2+ +4H2O
①滴定前是否要滴加指示剂?_____________(填“是”或“否”),请说明理由____
②某同学称取5.000 g残留物,经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液,移取25.00 mL试样溶液,用1.000×10-2 moI/LKMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20. 00 mL,则残留物中铁元素的质量分数是_______。
 0  13989  13997  14003  14007  14013  14015  14019  14025  14027  14033  14039  14043  14045  14049  14055  14057  14063  14067  14069  14073  14075  14079  14081  14083  14084  14085  14087  14088  14089  14091  14093  14097  14099  14103  14105  14109  14115  14117  14123  14127  14129  14133  14139  14145  14147  14153  14157  14159  14165  14169  14175  14183  203614 

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