硅是重要的半导体材料，构成了现代电子工业的基础．请回答下列问题：
（1）基态Si原子价电子排布图为，Si原子核外共有个不同运动状态的电子．
（2）单质硅存在与金刚石结构类似的晶体，其中原子与原子之间以相结合，其晶胞中共有8个原子，其中在面心位置贡献个原子．
（3）单质硅可通过甲硅烷（SiH₄）分解反应来制备．工业上采用Mg₂Si和NH₄Cl在液氨介质中反应制得SiH₄，该反应的化学方程式为．
（4）在硅酸盐中，SiO₄-4四面体（如图（a））通过共用顶角氧离子可形成岛状、链状、层状、骨架网状四大类结构型式．图（b）为一种无限长单链结构的多硅酸根，其中Si原子的杂化形式为，Si与O的原子数之比为，化学式为．

除去下列物质中所含杂质（括号中的物质）所选用的试剂和装置均正确的是（　　）
Ⅰ．试剂：①KMnO₄/H⁺②NaOH溶液　③饱和Na₂CO₃溶液④H₂O
Ⅱ．装置：

选项	物质	试剂	装置
A	C2H6（C2H4）	①	①
B	溴苯（溴）	②	③
C	CH3COOC2H5（CH3COOH）	③	②
D	甲苯（二甲苯）	①	③

铜和镁的合金4.6g完全溶于浓硝酸，若反应后硝酸被还原只产生 2.24L的 NO₂气体和1.12L的N₂O₄气体（都已折算到标准状况），在反应后的溶液中，加入足量的氢氧化钠溶液，生成沉淀的质量为（　　）

下列各组物质中，W为主体物质，X为杂质，Y为除杂试剂，Z是除杂方法，其中正确选用了试剂和处理方法的是（　　）

选项	W	X	Y	Z
A	CH3COOC2H5	CH3COOH	Na2CO3溶液	分液
B	CO2	SO2	饱和Na2CO3溶液	洗气
C	NaCl固体	I2	CCl4	分液
D	Na2CO3溶液	NaHCO3溶液	Ca（OH）2溶液	过滤

除去某物质里混有的少量杂质，下列做法中不正确的是（括号内的物质为杂质）（　　）

写出下列各实验操作时所需方法或实验仪器的名称：
方法（1）泥沙与水，（2）从溴水中提取溴，（3）水与乙醇，
仪器（4）配制480mL 1mol?L^-1的NaOH溶液，（5）分离汽油与水．

为了除去括号中的杂质，选用的正确的试剂填空，并写出相应的离子反应方程式
（1）CO₂（HCl） 选；
（2）Fe₂O₃（Al₂O₃）选；
（3）NaHCO₃（Na₂SiO₃）选；．

现有一盛有常见固体物质M的试剂瓶，标签已破损（如图所示）．请根据其性质回答下列问题：
（1）若M的水溶液呈中性，写出实验室检验M中阴离子的离子方程式：
（2）若将M置于空气中易被氧化成另一种物质，其相对分子质量只增加16，则M的化学式为
（3）若取少量的固体M加入水中，立即有气泡产生，则固体M中阴、阳离子的个数比为，M与水反应的离子方程式为：．
（4）若M的水溶液呈碱性，向M的水溶液中加入足量的盐酸，有臭鸡蛋气味的气体产生，则产生气体的离子方程式为：．

为了探究三种气态氧化物（SO₂、NO₂、CO₂）的性质，某同学设计了一组实验：
实验一：探究三种气体在水中的溶解性，用三支相同的试管收集满三种气体，倒置在盛满水的烧杯中，一段时间后，观察到的现象如图一中A、B、C所示．

（1）在相同条件下，三种气体在水中溶解度最大的是（写化学式），写出A烧杯中发生反应的化学方程式：．如果在三只烧杯中分别滴几滴紫色石蕊试液，可观察到的现象是．
实验二：用三只集气瓶收集满二氧化硫、二氧化氮气体，然后将其倒置在水槽中．分别缓慢通入适量O₂或
Cl₂，如图二中D、E、F所示．一段时间后，D、E装置的集气瓶中充满溶液，F装置的集气瓶中还有气体剩余．（2）实验二中装置D的集气瓶最终充满溶液（假设瓶内液体不扩散）：
①写出装置D中总反应的化学方程式：．
②假设该实验条件下，气体摩尔体积为a L?mol^-1．则装置D的集气瓶中所得溶液溶质的物质的量浓度为．
（3）写出实验F通入氧气后，发生反应的化学方程式：．
（4）溶液充满集气瓶后，在E装置的水槽里滴加硝酸钡溶液，可能观察到的现象为，用有关的离子方程式解释原因：．

由白色和黑色固体组成的混合物A，可以发生如下框图所示的一系列变化：

（1）写出反应①的化学方程式；反应③的离子方程式．
（2）操作②中的名称是：，在操作②中所使用的玻璃仪器的名称是：．
（3）上图实验装置中可用于实验室制取气体G的发生装置是：；为了得到纯净干燥的气体G，可将气体通过c和d装置，c装置中存放的试剂是：，d装置中存放的试剂是：．
（4）在上述装置的最后应连接装置，请写出该装置中反应的离子方程式：．