碳化硅(SiC) 、氧化铝(Al2O3) 和氮化硅(Si3N4)是优良的高温结构陶瓷,在工业生产和科技领域有重要用途。宇宙火箭和导弹中,大量用钛代替钢铁。
(1)Al的离子结构示意图为                  
Al与NaOH溶液反应的离子方程式为                                         
(2)氮化硅抗腐蚀能力很强,但易被氢氟酸腐蚀,氮化硅与氢氟酸反应生成四氟化硅和一种铵盐,
其反应方程式为                                                
(3)工业上用化学气相沉积法制备氮化硅,其反应如下:
3SiCl4(g) + x N2(g) + 6 H2(g)   Si3N4(s) + 12 HCl(g)   △H<0  
在恒温、恒容时,分别将0.3mol SiCl4(g)、0.2mol N2(g)、0.6mol H2(g)充入2 L密闭容器内,进行上述反应,5 min达到平衡状态,所得HCl(g)为0.3mol/L、 N2为0.05 mol/L
① H2的平均反应速率是                       
② 反应前与达到平衡时容器内的压强之比=           
③ 系数 x =     
(4)已知:TiO2(s)+2Cl2(g)===TiCl4(l)+O2(g)  ΔH1=+140 kJ·mol-1
C(s)+O2(g)=== CO(g)    ΔH2 =-110 kJ·mol-1
写出TiO2和焦炭、氯气反应生成TiCl4和CO气体的热化学方程式:
                                                                              
 0  104838  104846  104852  104856  104862  104864  104868  104874  104876  104882  104888  104892  104894  104898  104904  104906  104912  104916  104918  104922  104924  104928  104930  104932  104933  104934  104936  104937  104938  104940  104942  104946  104948  104952  104954  104958  104964  104966  104972  104976  104978  104982  104988  104994  104996  105002  105006  105008  105014  105018  105024  105032  203614 

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