题目内容
9．关于下列各图的叙述，正确的是（ ）
| A． | 甲表示H2与O2发生反应过程中的能量变化，则H2的燃烧热为483.6KJ•mol-1 | |
| B． | 乙表示恒温恒容条件下发生的可逆反应2NO2（g）?N2O4（g）中，各物质的浓度与其消耗速率之间的关系，其中交点A对应的状态为化学平衡状态 | |
| C． | 丙表示A、B两物质的溶解度随温度变化情况，将A、B饱和溶液分别由t1℃升温至t2℃时，溶质的质量分数B＞A | |
| D． | 丁表示常温下，稀释HA、HB两种酸的稀溶液时，溶液pH随加水量的变化，则同浓度的NaA溶液的pH小于NaB溶液 |
分析 A．表示燃烧热时应生成液态水．
B．可逆反应2NO2?N204（g）中，分析判断 二氧化氮消耗速率和四氧化二氮的消耗速率之比为2：1，说明反应达到平衡状态；
C．A、B两物质的溶解度均随温度升高而增大，由t1℃升温至t2℃时，A、B溶液浓度不变；
D．酸性越弱对应盐的水解显碱性，水解程度越大，溶液pH越大．
解答 解：A．表示燃烧热时应生成液态水，而图中为气态水，不是最稳定的物质，则不能表示为燃烧热，故A错误．
B．可逆反应2NO2?N204（g）中，分析判断，二氧化氮消耗速率和四氧化二氮的消耗速率之比为2：1时才能说明反应达到平衡状态，交点只是浓度相同不能证明达到终点，故B错误；
C．A、B两物质的溶解度均随温度升高而增大，由t1℃升温至t2℃时，A、B溶液浓度均不变，都没有达到饱和溶液，故C错误；
D．依据图象乙，稀释HA、HB两种酸的稀溶液时，溶液pH随加水量的变化HA溶液PH变化大，酸性HA＞HB，同浓度的NaA溶液的pH小于NaB溶液，故D正确．
故选D．
点评 本题考查较为综合，以图象为载体考查学生的分析能力，为高考常见题型和高频考点，题目测总考查化学反应能量守恒判断，弱电解质溶液稀释后溶液酸性强弱比较，注意把握图象曲线变化的意义，把握相关基本反应原理的理解，题目难度中等．
练习册系列答案
相关题目
20．一定条件下，溶液的酸碱性对TiO2光催化染料R降解反应的影响如图所示．下列判断正确的是（ ）
| A． | 在20～25min之间，pH=10时R的平均降解速率为0.04 mol•L-1•min-1 | |
| B． | 溶液酸性越强，R的降解速率越小 | |
| C． | R的起始浓度越小，降解速率越大 | |
| D． | 50min时，pH=2和pH=7时R的降解百分率相等 |
17．下列各组物质在一定条件下反应，可以制得较纯净的氯乙烷的是（ ）
| A． | 乙烷与氯气取代 | B． | 乙烯与氢气加成，再用氯气取代 | ||
| C． | 乙烯与氯化氢加成 | D． | 乙烯与氯气加成 |
4．下列有关溶液组成的描述合理的是（ ）
| A． | 无色溶液中可能大量存在：Al3+、NH4+、Cl-、S2- | |
| B． | 0.1 mol/LFeCl3溶液中大量存在：Fe2+、NH4+、SCN-、SO42- | |
| C． | 加入Al粉产生H2的溶液中可能大量存在：K+、Na+、NO3-、Cl- | |
| D． | 中性溶液中可能大量存在：Fe3+、K+、Cl-、SO42- |
14．硅是目前半导体工业中最重要的基础原料，其导电性对哦杂质等十分敏感，因此，必须制备高纯度硅．虽然地壳中硅的含量丰富，但大多数以化合物形式存在，需要通过化学方法来制备高纯度的单晶硅，一种简单工艺流程如下：
（1）石英砂的主要成分是SiO2 （填写化学式），反应器甲中发生反应的化学方程式为SiO2+C$\frac{\underline{\;1600-1800℃\;}}{\;}$Si（粗）+2CO↑．
（2）石英砂与焦炭在一定条件下反应也会生成碳化硅，碳化硅又称金刚砂，其晶体类型为原子晶体．
（3）①反应器乙中发生的反应为：Si（s）+3HCl（g）=SiHCl3（g）+H2（g）△H=-210kJ/mol，工业上为了加快SiHC13的生成速率而又不降低硅的转化率，可以采用的方法是催化剂、增大压强或HCl浓度．
②反应器乙所得的反应产物中，SiHCl3大约占85%，还有SiCl4等，有关物质的沸点数据如一下：
提纯SiHCl3的主要工艺操作依次为沉降、冷凝、精馏，其中精馏温度最好控制在31.8℃．
③SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，其水解的反应方程式为SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl↑．
（4）反应器丙中发生的反应的化学方程式为H2+SiHCl3$\frac{\underline{\;1100-1200℃\;}}{\;}$Si+3HCl
（5）该生产工艺中可以循环使用的物质是氯化氢、氢气．
（1）石英砂的主要成分是SiO2 （填写化学式），反应器甲中发生反应的化学方程式为SiO2+C$\frac{\underline{\;1600-1800℃\;}}{\;}$Si（粗）+2CO↑．
（2）石英砂与焦炭在一定条件下反应也会生成碳化硅，碳化硅又称金刚砂，其晶体类型为原子晶体．
（3）①反应器乙中发生的反应为：Si（s）+3HCl（g）=SiHCl3（g）+H2（g）△H=-210kJ/mol，工业上为了加快SiHC13的生成速率而又不降低硅的转化率，可以采用的方法是催化剂、增大压强或HCl浓度．
②反应器乙所得的反应产物中，SiHCl3大约占85%，还有SiCl4等，有关物质的沸点数据如一下：
| 物质 | Si | SiCl4 | SiHCl3 | SiH2Cl2 | SiH3Cl | HCl |
| 沸点/℃ | 2355 | 57.6 | 31.8 | 8.2 | -30.4 | -84.9 |
③SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，其水解的反应方程式为SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl↑．
（4）反应器丙中发生的反应的化学方程式为H2+SiHCl3$\frac{\underline{\;1100-1200℃\;}}{\;}$Si+3HCl
（5）该生产工艺中可以循环使用的物质是氯化氢、氢气．
1．
X、Y、Z、W是中学常见的四种短周期元素，其原子序数依次增大，且原子核外最外层电子数都不少于2，X的族序数与最外层电子数相等．四种元素的单质均能在氧气中燃烧，生成四种相对分子质量都大于26的氧化物，其中有两种氧化物能溶于稀硫酸，三种能溶于烧碱溶液．四种元素单质的混合物有如下性质：下列说法正确的是（ ）
X、Y、Z、W是中学常见的四种短周期元素，其原子序数依次增大，且原子核外最外层电子数都不少于2，X的族序数与最外层电子数相等．四种元素的单质均能在氧气中燃烧，生成四种相对分子质量都大于26的氧化物，其中有两种氧化物能溶于稀硫酸，三种能溶于烧碱溶液．四种元素单质的混合物有如下性质：下列说法正确的是（ ）| A． | 原子半径：X＞Y＞Z＞W | |
| B． | 简单气态氮化物的热稳定性：W＞X | |
| C． | 最高价氧化物对应的水化物的碱性：Z＞Y | |
| D． | X和W组成的化合物常作砂纸、砂轮的磨料 |
16．某有机物的结构如图所示，下列说法正确的是（ ）
| A． | 有机物的分子式为C11H14O3 | |
| B． | 有机物中含有4种不同的官能团 | |
| C． | 0.5 mol 该有机物与足量NaOH溶液反应，消耗NaOH 1mol | |
| D． | 0.5 mol 该有机物与足量金属钠反应，能生成标准状况下的氢气11.2L |
17．下列对分子性质的解释中，不正确的是（ ）
| A． | 水很稳定（1000℃以上才会部分分解）是因为水中含有大量的氢键 | |
| B． | 乳酸有一对手性异构体，因为其分子中含有一个手性碳原子 | |
| C． | 碘易溶于四氯化碳，甲烷难溶于水都可用“相似相溶”解释 | |
| D． | 酸性：HClO4＞HClO，因为HClO4的非羟基氧原子数大于次氯酸的非羟基氧原子数 |