一种高分子膜的结构简式为:则有关它的性质叙述正确的是().A.这种物质可溶于水B.这种物质不能在空气中燃烧C.在浓H2SO4存在并加热条件下可发生消去反应D.单体通过加聚反应可生成这种物质题目和参考答案——青夏教育精英家教网——

题目内容

一种高分子膜的结构简式为：

则有关它的性质叙述正确的是（）。
A.这种物质可溶于水
B.这种物质不能在空气中燃烧
C.在浓H₂SO₄存在并加热条件下可发生消去反应
D.单体通过加聚反应可生成这种物质

C
【试题分析】

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感光高分子是制做大规模集成电路等微型电路不可缺少的材料。感光高分子在曝晒时可发生二聚反应，生成不溶性的交联高分子硬化膜。将未感光部分用溶剂或其它药品洗去，便可以制成集成电路等。常用的感光高分子有聚乙烯醇肉桂酸酯，它感光后的二聚交联高分子结构简式为：

（1）在感光前这种感光高分子（单分子）的结构简式为________。

（2）单分子的这种感光高分子材料可用肉桂酸(C₆H₅×C₃H₃O₂)与一种烃反应而得其单体。试写出这种烃与肉桂酸合成单体的化学方程式________。

感光高分子是制做大规模集成电路等微型电路不可缺少的材料。感光高分子在曝晒时可发生二聚反应，生成不溶性的交联高分子硬化膜。将未感光部分用溶剂或其它药品洗去，便可以制成集成电路等。常用的感光高分子有聚乙烯醇肉桂酸酯，它感光后的二聚交联高分子结构简式为：

（1）在感光前这种感光高分子（单分子）的结构简式为________。

（2）单分子的这种感光高分子材料可用肉桂酸(C₆H₅×C₃H₃O₂)与一种烃反应而得其单体。试写出这种烃与肉桂酸合成单体的化学方程式________。

(10分)感光高分子是制作大规模集成电路不可缺少的材料，感光高分子在曝光时会发生二聚反应，生成不溶性的交联高分子硬化膜，未感光部分可用溶剂或其他药品洗去。常用的感光高分子有某有机酸聚酯，它感光后形成二聚交联高分子，它的结构简式如下：

请据此回答下列问题：

(1)该有机酸聚酯可水解为两种分子，一种不含苯环的名称为________。另一种含苯环，其结构简式为__________。

(2)聚酯在光照下的二聚反应属_____反应(填反应类型)。

(3)乙炔与某有机酸在催化剂的作用下发生某种反应可获得该聚酯的单体，写出该反应方程式(有机物用结构简式表示)：________________________。

(4)该聚酯水解得到的含羧基的有机物有多种同分异构体，其中含苯环且苯环上只有一个链状取代基并属于酯类的同分异构体，除

外还有两种，请写出其结构简式：________、________。

12分）高支化聚合物是一种新型高分子材料，是21世纪高分子科学发展的重要方向之一。高支化聚合物包括树枝状聚合物和超支化聚合物两类，它们均具有良好的溶解性、低粘度和易于端基改性等特性。树枝状聚合物结构规整，但合成困难；超支化聚合物结构虽不完整，但合成相对简便，易于工业化。通常利用XY_n（n≥2）型单体的自缩聚反应合成超支化聚合物，通过改变超支化聚合物的结构及对其端基进行修饰可以制备多种具有特殊用途的新材料，在高分子加工助剂、特种涂料与粘合剂、高性能复合材料、功能膜材料和药物控制释放等领域具有广泛的应用前景。

以XY_n型单体A（）为原料合成了一种超支化聚芳酰胺B，合成路线如下：

C（C₇H₃N₂O₅Cl）＋DEAB

8-1 写出C、D、E的结构简式

8-2 命名A和C

8-3 画出B（超支化聚芳酰胺）的有代表性的结构片段

8-4 B在水溶液和醇溶液中的溶解性如何？说明理由

8-5 通过原位端基改变，可制备多种封端的超支化聚合物。写出下面两个反应产物的结构简式

（1）A＋乙酸酐 →

（2）A＋苯甲酰氯 →