题目内容
(共6分) 实验室制备少量硅一般采用镁粉还原SiO2的方法,然后用稀盐酸洗涤产品以除去杂质。某同学在进行上述操作时,在制得的产品中加HCl洗涤时突然起火。
(1) 请用化学方程式解释:
①稀盐酸洗涤产品可除去哪些主要杂质?
②为什么加HCl洗涤时突然起火?
(2) 请设计一个实验来验证你的解释。(不必画出装置图,也不必指出具体化学药品,不要写方程式,只要简明指出方法。)
(1) ① 2HCl+MgO
H2O+MgCl2
2HCl+Mg
H2↑+MgCl2
② SiO2+4Mg
Mg2Si +2MgO
Mg2Si+4HCl
SiH4+2MgCl2
SiH4+2O2
SiO2+2H2O
(2) 在N2保护下(或惰性气体),对硅烷气体进行检验。
SiH4+2KMnO4
H2+K2SiO3+2MnO2↓+ H2O (不要求)
(方程式各1分,检验1分)
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