Question

硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：

（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷（SiHCl₃）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

①写出由纯SiHCl₃制备高纯硅的化学反应方程式　　　　。

②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式　　　　；H₂还原SiHCl₃过程中若混O₂，可能引起的后果是        。

（2）下列有关硅材料的说法正确的是      （填字母）。

A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水混

B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承

C．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂的，其熔点很高

D．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

（3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡。写出实验现象并给予解释　　　　。

Answer 1

（1） ①写出由纯SiHCl₃制备高纯硅的化学反应方程式:

SiHCl₃+H₂==（1357K）== Si+3HCl

②SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式3SiHCl₃+3H₂O===H₂SiO₃+H₂↑+3HCl; H₂还原SiHCl₃过程中若混入O₂，可能引起的后果是：高温下，H₂遇O₂发生爆炸。

（2）ABCD

（3）写出实验现象并给予解释：生成白色絮状沉淀，又刺激性气味的气体生成；SiO₃^2-与NH₄⁺发生双水解反应，SiO₃^2- + 2 NH₄⁺ + 2H₂O === 2NH₃?H₂O + H₂SiO₃↓。