题目内容
8.氮化硅(Si3N4)是一种优良的高温结构陶瓷,在航天航空、汽车发动机、机械等领域有着广泛的用途.工业上有多种方法来制备氮化硅,常见的方法有:(1)在1 300-l 400℃时,高纯粉状硅与纯氮气化合,其反应方程式为3Si+2N2$\frac{\underline{\;1300~1400℃\;}}{\;}$Si3N4.
(2)在高温条件下利用四氯化硅气体、纯氮气、氢气反应生成氮化硅和HCl.
①已知:25℃,101kPa条件下的热化学方程式:
3Si(s)+2N2(g)=Si3N4(s)△H=-750.2kJ/mol
Si(s)+2Cl2(g)=SiCl4(g)△H=-609.6kJ/mol
1/2H2(g)+1/2Cl2(g)=HCl(g)△H=-92.3kJ/mol
四氯化硅气体与氮气、氢气反应的热化学方程式为3SiCl4(g)+2N2(g)+6H2(g)=Si3N4(g)+12HCl(g)△H=-29.0kJ/mol.
②工业上制取高纯硅和四氯化硅的生产流程如图1:
已知:X,高纯硅、原料B的主要成分都可与Z反应,Y与X在光照或点燃条件下可反应,Z的焰色呈黄色.上述生产流程中电解A的水溶液时,阳极材料能否用Cu?不能(填“能”或“不能”).写出Cu为阳极电解A的水溶液开始一段时间阴阳极的电极方程式.阳极:Cu-2e-=Cu2+;阴极:2H2O+2e-=H2↑+2OH-.
(3)由石英砂合成氮化硅粉末的路线图如图2所示
①石英砂不能与碱性物质共同存放,以NaOH为例,用化学方程式表示其原因:SiO2+2NaOH=Na2SiO3+H2O.
②图2示I-V的变化中,属于氧化还原反应的是I、Ⅱ.
③SiCl4在潮湿的空气中剧烈水解,产生白雾,军事工业中用于制造烟雾剂.SiCl4水解的化学方程式为SiCl4+3H2O=4HCl↑+H2SiO3↓.
④在反应IV中四氯化硅与氨气反应生成Si(NH2)4和一种气体HCl(填分子式);在反应V中Si(NH2)4受热分解,分解后的另一种产物的分子式为NH3.
分析 (1)硅与氮气反应生成Si3N4;
(2)①已知:Ⅰ.3Si(s)+2N2(g)=Si3N4(s)△H=-750.2kJ/mol
Ⅱ.Si(s)+2Cl2(g)=SiCl4(g)△H=-609.6kJ/mol
Ⅲ.$\frac{1}{2}$H2(g)+$\frac{1}{2}$Cl2(g)=HCl(g)△H=-92.3kJ/mol
根据盖斯定律,Ⅰ-Ⅱ×3+Ⅲ×12可得:3SiCl4(g)+2N2(g)+6H2(g)=Si3N4(g)+12HCl(g),反应热也进行相应的计算;
②原料B与碳得到粗产品与X反应生成SiCl4,则X为氯气,原料B与碳得到粗产品为Si,故B为SiO2.Y与氯气在光照或点燃条件下可反应,且与SiCl4反应得到高纯度Si,则Y为氢气.Z的焰色呈黄色,含有Na元素,电解A得到氢气、氯气与Z,则Z为NaOH、A为NaCl;
(3)①二氧化硅与氢氧化钠反应生成硅酸钠与水;
②反应Ⅰ为置换反应,反应Ⅱ为有单质参加的化合反应,Ⅲ中物质未发生变化,Ⅳ中元素化合物均为发生变化;
③SiCl4水解得到HCl、H2SiO3;
④在反应IV中四氯化硅与氨气反应生成Si(NH2)4和一种气体,由元素守恒可知,该气体为HCl;在反应V中Si(NH2)4受热分解生成Si3N4,由原子守恒可知另一种产物为NH3.
解答 解:(1)硅与氮气反应生成Si3N4,反应方程式为:3Si+2N2$\frac{\underline{\;1300~1400℃\;}}{\;}$Si3N4,
故答案为:3Si+2N2$\frac{\underline{\;1300~1400℃\;}}{\;}$Si3N4;
(2)①已知:Ⅰ.3Si(s)+2N2(g)=Si3N4(s)△H=-750.2kJ/mol
Ⅱ.Si(s)+2Cl2(g)=SiCl4(g)△H=-609.6kJ/mol
Ⅲ.$\frac{1}{2}$H2(g)+$\frac{1}{2}$Cl2(g)=HCl(g)△H=-92.3kJ/mol
根据盖斯定律,Ⅰ-Ⅱ×3+Ⅲ×12可得:3SiCl4(g)+2N2(g)+6H2(g)=Si3N4(g)+12HCl(g),故△H=-750.2kJ/mol-3×(-609.6kJ/mol)+12×(-92.3kJ/mol)=-29.0kJ/mol,
故答案为:3SiCl4(g)+2N2(g)+6H2(g)=Si3N4(g)+12HCl(g)△H=-29.0kJ/mol;
②原料B与碳得到粗产品与X反应,生成SiCl4,则X为氯气,原料B与碳得到粗产品为Si,故B为SiO2.Y与氯气在光照或点燃条件下可反应,且与SiCl4反应得到高纯度Si,则Y为氢气.Z的焰色呈黄色,含有Na元素,电解A得到氢气、氯气与Z,则Z为NaOH、A为NaCl.
上述生产流程中电解NaCl的水溶液时,阳极氯离子放电生成氯气,阳极材料若为Cu,则Cu放电,氯离子不能放电生成氯气,故阳极材料不能为Cu;
Cu为阳极电解NaCl的水溶液开始一段时间,阳极Cu放电生成铜离子,阳极电极反应式为:Cu-2e-=Cu2+,
阴极水放电生成氢气与氢氧根离子,阴极电极反应式为:2H2O+2e-=H2↑+2OH-,
故答案为:不能;Cu-2e-=Cu2+;2H2O+2e-=H2↑+2OH-;
(3)①二氧化硅与氢氧化钠反应生成硅酸钠与水,反应方程式为:SiO2+2NaOH=Na2SiO3+H2O,
故答案为:SiO2+2NaOH=Na2SiO3+H2O;
②反应Ⅰ为置换反应,反应Ⅱ为有单质参加的化合反应,二者均属于氧化还原反应,Ⅲ中物质未发生变化,未发生化学变化,Ⅳ中元素化合物均为发生变化,属于非氧化还原反应,
故答案为:I、Ⅱ;
③SiCl4水解得到HCl、H2SiO3,反应方程式为:SiCl4+3H2O=4HCl↑+H2SiO3↓,
故答案为:SiCl4+3H2O=4HCl↑+H2SiO3↓;
④在反应IV中四氯化硅与氨气反应生成Si(NH2)4和一种气体,由元素守恒可知,该气体为HCl;在反应V中Si(NH2)4受热分解生成Si3N4,由原子守恒可知另一种产物为NH3,
故答案为:HCl;NH3.
点评 本题属于拼合型题目,涉及化学工艺流程、无机物推断、电解原理、热化学方程式书写等,有利用学生能力的考查,需要学生具备扎实的基础与灵活运用能力.
| A. | 第二周期元素氢化物稳定性顺序是HF>H2O>NH3;则第三周期元素氢化物稳定性顺序也是HCl>H2S>PH3 | |
| B. | SiO2晶体熔化时破坏的是共价键;所以CO2晶体熔化时破坏的也是共价键 | |
| C. | 可电解熔融MgCl2来制取金属镁;也能电解熔融AlCl3来制取金属铝 | |
| D. | 晶体中有阴离子,必有阳离子;则晶体中有阳离子,也必有阴离子 |
| A. | F2→F- | B. | HNO3→NO | C. | Mg→Mg2+ | D. | Na2O2→O2 |
| A. | XeO4 | B. | BeCl2 | C. | CH4 | D. | PCl3 |
| A. | P3>P4,Y轴表示混合气体的平均摩尔质量 | |
| B. | P3>P4,Y轴表示混合气体的密度 | |
| C. | P3<P4,Y轴表示A2的浓度 | |
| D. | P3<P4,Y轴表示A2的转化率 |
| 元素编号 | A | B | C | D | E | F | G | H | I | J |
| 原子半径(10-10m) | 1.02 | 2.27 | 0.74 | 1.43 | 0.77 | 1.10 | 0.99 | 1.86 | 0.75 | 1.17 |
| 最高正价 | +6 | +1 | 无 | +3 | +4 | +5 | +7 | +1 | +5 | +4 |
| 最低负价 | -2 | 无 | -2 | 无 | -4 | -3 | -1 | 无 | -3 | -4 |
(1)以上10种元素中第一电离能最小的是K(填元素符号).
(2)写出下列有关反应的化学方程式:E的单质与I元素的最高价氧化物对应的水化物反应:C+2H2SO4(浓)$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$CO2↑+2SO2↑+2H2O.
(3)比元素B原子序数大11的元素的基态原子电子排布式是[Ar]3d104s2.
(4)C和I相比较,非金属性较弱的是N(填元素符号),可以验证你的结论的是下列中的ab(填编号).
a.气态氢化物的稳定性
b.两元素的电负性
c.含氧酸的酸性
d.最高化合价.
| A. | SiO2→SiF4 | B. | Al2O3→Al(OH)3 | C. | Fe→FeCl2 | D. | SiO2→CaSiO3 |