题目内容
W、X、Y、Z是四种常见的短周期元素，其原子半径随原子序数变化如下图所示。已知W的一种核素的质量数为18，中子数为10；X和Ne原子的核外电子数相差1；Y的单质是一种常见的半导体材料；Z的电负性在同周期主族元素中最大。
（1）X位于元素周期表中的位置 ；18W与X形成原子个数1：1的物质，该物质与H2O反应的化学方程式 。（在化学式中标出质量数18）
（2）X的单质和Y的单质相比，熔点较高的是_____(写化学式)；Z的气态氢化物和溴化氢相比，较稳定的是_______(写化学式)。
（3）Y与Z形成的化合物和足量水反应，生成一种弱酸和一种强酸，该反应的化学方程式是________。
（1）第三周期ⅠA族 2Na218O2 + 2H2O=2Na18OH + 2NaOH+ 18O2（2分）
（2）Si HCl
（3）SiCl4＋3H2O=H2SiO3↓＋4HCl（2分，其余为1分）
【解析】
试题分析：W、X、Y、Z是四种常见的短周期元素，已知W的一种核素的质量数为18，中子数为10，则W元素原子的质子数为8，W为氧元素；X和Ne原子的核外电子数相差1，X为Na或F，X原子半径大于氧原子，X为Na元素；Y的单质是一种常见的半导体材料，原子序数大于Na元素，Y为Si元素；Z的非金属性在同周期元素中最强，Z为Cl元素；（1）X为Na，在元素周期表中的位置是第三周期ⅠA族；18W与X形成原子个数1：1的物质为Na218O2，与H2O反应的化学方程式为2Na218O2 + 2H2O=2Na18OH + 2NaOH+ 18O2（2）根据晶体结构和钠和硅的物理性质分析，钠的熔点较低，硅熔点较高根据同主族元素性质递变规律知，氯化氢比溴化氢稳定；（3）SiCl4和足量的水反应，生成一种弱酸和一种强酸，反应方程式为：SiCl4+4H2O=H4SiO4↓+4HCl。
考点：考查元素推断、位构性之间的关系及化学用语的书写。
W、X、Y、Z是四种常见的短周期元素，其原子半径随原子序数变化如图所示．已知W的一种核素的质量数为18，中子数为10；X和Ne原子的核外电子数相差1；Y的单质是一种常见的半导体材料；Z是
（2011?安徽）W、X、Y、Z是四种常见的短周期元素，其原子半径随原子序数变化如下图所示．已知W的一种核素的质量数为18，中子数为10；X和Ne原子的核外电子数相差1；Y的单质是一种常见的半导体材料；Z的电负性在同周期主族元素中最大．
（2013?济宁一模）W、X、Y、Z是四种常见的短周期元素，其原子半径随原子序数变化如图．已知W的一种核素的质量数为18，中子数为10；X和Ne原子的核外电子数相差1；Y的单质是一种常见的半导体材料；Z的非金属性在同周期元素中最强，下列说法正确的是（ ）
W、X、Y、Z是四种常见的短周期元素，其原子半径随原子序数变化如下图所示．已知W的一种核素的质量数为18，中子数为10；X和Ne原子的核外电子数相差1；Y的单质是一种常见的半导体材料；Z的电负性在同周期主族元素中最大．（以下答案的W、X、Y、Z必须用相应的元素符号代替）
W、X、Y、Z是四种常见的短周期元素，其原子半径随原子序数变化如下图所示．已知W的一种核素的质量数为14，中子数为7；X的离子与NH4+具有相同的质子、电子数目； W与Y的氧化物均能导致酸雨的形成；Z的非金属性在同周期主族元素中最强．